Invention Application
- Patent Title: 超電導薄膜用基材及び超電導薄膜、並びに超電導薄膜用基材の製造方法
- Patent Title (English): Superconducting thin film substrate and superconducting thin film, and superconducting thin film substrate manufacturing method
- Patent Title (中): 超薄薄膜基板和超导薄膜，以及超薄薄膜基板制造方法
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Application No.: PCT/JP2012/066904Application Date: 2012-07-02
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Publication No.: WO2013002410A1Publication Date: 2013-01-03
- Inventor: 樋口 優 , 坂本 久樹 , 長洲 義則
- Applicant: 古河電気工業株式会社 , 樋口 優 , 坂本 久樹 , 長洲 義則
- Applicant Address: 〒1008322 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 Tokyo JP
- Assignee: 古河電気工業株式会社,樋口 優,坂本 久樹,長洲 義則
- Current Assignee: 古河電気工業株式会社,樋口 優,坂本 久樹,長洲 義則
- Current Assignee Address: 〒1008322 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 Tokyo JP
- Agency: 中島 淳
- Priority: JP2011-146162 20110630
- Main IPC: H01B12/06
- IPC: H01B12/06 ; H01B13/00 ; H01L39/24
Abstract:
臨界電流特性に優れた超電導薄膜を作製する。 超電導薄膜用基材は、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．４以下である主面（１０Ｂ）を有する基材本体（１０Ａ）を備える。
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