Invention Application
- Patent Title: 메틸클로로실란의 직접합성법에서 부산물로 생성되는 고비점 잔류물의 재분배 방법
- Patent Title (English): Method for redistributing high-boiling residue generated as by-product in direct synthesis of methylchlorosilane
- Patent Title (中): 在甲基氯硅烷的直接合成中重新生成作为副产物生成的高沸点残留物的方法
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Application No.: PCT/KR2011/010238Application Date: 2011-12-28
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Publication No.: WO2013062178A1Publication Date: 2013-05-02
- Inventor: 김현우 , 이현석 , 이석영 , 조장연
- Applicant: 주식회사 케이씨씨 , 김현우 , 이현석 , 이석영 , 조장연
- Applicant Address: 137-855 서울시 서초구 서초동 1301-4, Seoul KR
- Assignee: 주식회사 케이씨씨,김현우,이현석,이석영,조장연
- Current Assignee: 주식회사 케이씨씨,김현우,이현석,이석영,조장연
- Current Assignee Address: 137-855 서울시 서초구 서초동 1301-4, Seoul KR
- Agency: 최규팔
- Priority: KR10-2011-0110203 20111026
- Main IPC: C07F7/02
- IPC: C07F7/02 ; B01J19/00 ; B01J21/02
Abstract:
본 발명은 메틸클로로실란을 직접합성법에 의해 제조하는 공정 중 생성된, 1기압 하에서 70℃ 이상의 고비점을 갖는 실리콘 잔류물을 재분배하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 촉매의 존재 하에서 상기 고비점 실리콘 잔류물을 활성 수소 함유 실란과 고온에서 반응시킴으로써 디메틸디클로로실란(Me 2 SiCl 2 ) 및 트리메틸클로로실란(Me 3 SiCl)의 함량이 증가된 메틸클로로실란 혼합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
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