Invention Application
- Patent Title: マンガン酸化物薄膜および酸化物積層体
- Patent Title (English): Manganese oxide thin film and oxide laminate
- Patent Title (中): 锰氧化物薄膜和氧化物层压板
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Application No.: PCT/JP2012/081760Application Date: 2012-12-07
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Publication No.: WO2013108508A1Publication Date: 2013-07-25
- Inventor: 荻本 泰史
- Applicant: 富士電機株式会社
- Applicant Address: 〒2109530 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 Kanagawa JP
- Assignee: 富士電機株式会社
- Current Assignee: 富士電機株式会社
- Current Assignee Address: 〒2109530 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 Kanagawa JP
- Agency: 河野 広明
- Priority: JP2012-009652 20120120
- Main IPC: C30B29/22
- IPC: C30B29/22 ; C01G45/00 ; C23C14/06 ; C23C14/08 ; C30B29/68 ; H01L27/105 ; H01L43/08 ; H01L45/00 ; H01L49/00
Abstract:
室温でモット転移により相転移しスイッチング機能を実現する薄膜または積層体を提供する。本発明のある実施形態においては、基板1の面の上に形成され、組成式RMnO 3 (ただし、Rはランタノイドから選択される少なくとも1種の3価の希土類元素)により表される組成のマンガン酸化物薄膜2であって、元素Rを含みMnを含まない原子層と、Mnを含み元素Rを含まない原子層とが基板面に垂直方向に向かって交互に並ぶように積層されており、基板面の面内方向に、互いに非等価な2つの結晶軸を有しているマンガン酸化物薄膜が提供される。また、本発明のある態様においては、上記態様のマンガン酸化物薄膜2に、強相関酸化物薄膜3、31、32を接して形成した酸化物積層体も提供される。
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IPC分类: