Invention Application
- Patent Title: 自己組織化可能なブロック・コポリマーを用いて周期パターン形成する方法及び装置
- Patent Title (English): Periodic pattern forming method and device employing self-assembled block copolymer
- Patent Title (中): 周期性图案形成方法和使用自组装块状共聚物的装置
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Application No.: PCT/JP2013/058100Application Date: 2013-03-21
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Publication No.: WO2013146538A1Publication Date: 2013-10-03
- Inventor: 西村 栄一 , 山下 扶美子 , 新妻 沙都子
- Applicant: 東京エレクトロン株式会社
- Applicant Address: 〒1076325 東京都港区赤坂五丁目3番1号 Tokyo JP
- Assignee: 東京エレクトロン株式会社
- Current Assignee: 東京エレクトロン株式会社
- Current Assignee Address: 〒1076325 東京都港区赤坂五丁目3番1号 Tokyo JP
- Agency: 伊東 忠重
- Priority: JP2012-074540 20120328; US61/620,513 20120405
- Main IPC: H01L21/3065
- IPC: H01L21/3065 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00 ; H01L21/027
Abstract:
ブロック・コポリマーの第1のポリマー及び第2のポリマーを自己組織化し、ガイド層210内に形成された周期パターン形成する方法は、第1のガスから生成されたプラズマにより前記第2のポリマーをエッチングする第1のエッチング工程と、前記第1のエッチング工程後、第2のガスから生成されたプラズマにより前記第2のポリマーのエッチング部分以外の前記第1のポリマー及び前記ガイド層の表面に第1の保護膜270を成膜する第1の成膜工程と、前記第1の成膜工程後、前記第1のガスから生成されたプラズマにより前記第2のポリマーを更にエッチングする第2のエッチング工程と、を含む。
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