发明申请
WO2014006526A2 A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING A NON-IONIC SURFACTANT AND A CARBONATE SALT
审中-公开
包含非离子表面活性剂和碳酸盐的化学机械抛光（CMP）组合物
- 专利标题： A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING A NON-IONIC SURFACTANT AND A CARBONATE SALT
- 专利标题（中）： 包含非离子表面活性剂和碳酸盐的化学机械抛光（CMP）组合物
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申请号： PCT/IB2013/055102申请日： 2013-06-21
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公开(公告)号： WO2014006526A2公开(公告)日： 2014-01-09
- 发明人: REICHARDT, Robert , LAUTER, Michael , CHIU, Wei Lan William
- 申请人： BASF SE , BASF SCHWEIZ AG , BASF (CHINA) COMPANY LIMITED
- 申请人地址： 67056 Ludwigshafen DE
- 专利权人： BASF SE,BASF SCHWEIZ AG,BASF (CHINA) COMPANY LIMITED
- 当前专利权人： BASF SE,BASF SCHWEIZ AG,BASF (CHINA) COMPANY LIMITED
- 当前专利权人地址： 67056 Ludwigshafen DE
- 代理机构： BASF SE
- 优先权： EP12175331.3 20120706
摘要：
A chemical mechanical polishing (CMP) composition (Q) comprising (A) Inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, wherein the particles are cocoon-shaped (B) a non-ionic surfactant, (C) a carbonate or hydrogen carbonate salt, (D) an alcohol, and (M) an aqueous medium.
