各第１半導体レーザ４４ａ、４４ｂ及び各第２半導体レーザ４５ａ、４５ｂが駆動基板４６（ＹＺ平面）上に配置されて、各第１半導体レーザ４４ａ、４４ｂ及び各第２半導体レーザ４５ａ、４５ｂの光ビームＬ１～Ｌ４の出射方向がＹＺ平面と直交し、ＹＺ平面上において、各第１半導体レーザ４４ａ、４４ｂ及び各第２半導体レーザ４５ａ、４５ｂがポリゴンミラー４２の回転軸と直交する横方向の互いに異なる２ラインｙ１、ｙ２上に振り分けて配置され、各第１半導体レーザ４４ａ、４４ｂ及び各第２半導体レーザ４５ａ、４５ｂがポリゴンミラー４２の回転軸方向である縦方向の互いに異なるそれぞれのラインｚ１～ｚ４上に配置されている。