Invention Application
- Patent Title: 記憶素子および記憶装置
- Patent Title (English): Storage element and storage device
- Patent Title (中): 存储元件和存储设备
-
Application No.: PCT/JP2013/083029Application Date: 2013-12-10
-
Publication No.: WO2014103691A1Publication Date: 2014-07-03
- Inventor: 清 宏彰 , 大場 和博 , 野々口 誠二
- Applicant: ソニー株式会社
- Applicant Address: 〒1080075 東京都港区港南1丁目7番1号 Tokyo JP
- Assignee: ソニー株式会社
- Current Assignee: ソニー株式会社
- Current Assignee Address: 〒1080075 東京都港区港南1丁目7番1号 Tokyo JP
- Agency: 特許業務法人つばさ国際特許事務所
- Priority: JP2012-281395 20121225; JP2013-156038 20130726; JP2013-229393 20131105
- Main IPC: H01L27/105
- IPC: H01L27/105 ; H01L45/00 ; H01L49/00
Abstract:
低電流書き込み時の抵抗値の保持性能を向上させることが可能な記憶素子および記憶装置を提供する。本技術の記憶素子は、第1電極、記憶層および第2電極をこの順に有し、記憶層は、周期律表第4族、第5族および第6族から選ばれる少なくとも1種の遷移金属元素とテルル(Te),硫黄(S)およびセレン(Se)から選ばれる少なくとも1種のカルコゲン元素とホウ素(B)および炭素(C)のうちの少なくとも1種とを含むイオン源層と、第1電極および第2電極への電圧印加によって抵抗が変化する抵抗変化層とを備える。
Information query
IPC分类: