セラミックマトリックス複合材（ＣＭＣ）の加工速度を向上させるものであり、セラミックマトリックス複合材の加工方法は、セラミックマトリックス複合材（ＣＭＣ）の被加工材３０の表面にレーザヘッド２１からレーザ光の照射部３２を走査して照射し、この照射部３２における被加工材３０の表面に劣化層を形成するステップと、エンドミル２５によって照射部３２に形成された劣化層を順に除去するステップとを有し、前記劣化層は、照射部３２をレーザ光の連続発振レーザ光の照射により所定温度まで加熱するとともにパルス発振レーザ光の照射により亀裂を形成することにより形成されたものである。