積層体の厚みが薄くても割れにくく、かつ磁気特性が維持された積層型インダクタ素子の製造方法を提供することを目的とする。　磁性体基板の線膨張係数は、非磁性体ペーストの線膨張係数、及び非磁性体基板の線膨張係数よりも大きい。よって、磁性体層は、積層体の焼成時に、非磁性体層よりも膨張し、積層体が常温に冷却された時に、非磁性体層より収縮する。すると、引張応力は、磁性体層に発生する。よって、クラックは、磁性体層だけで進行する。本発明の積層型インダクタ素子の製造方法は、任意の位置の磁性体層における分割線を少なくとも跨ぐように、非磁性体を形成する。本発明の積層型インダクタ素子の製造方法は、積層体が薄い場合、例えば最外層の面のいずれかの面に近い位置に非磁性体を形成する。すると、積層体は、クラックの進行が積層体の表層で止まるため、割れにくくなる。