Invention Application
- Patent Title: 気体処理装置用保持材
- Patent Title (English): Retention material for gas processing device
- Patent Title (中): 气体加工装置的保持材料
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Application No.: PCT/JP2014/001672Application Date: 2014-03-24
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Publication No.: WO2014156104A1Publication Date: 2014-10-02
- Inventor: 中村 大毅 , 友末 信也 , 坂根 忠司
- Applicant: ニチアス株式会社
- Applicant Address: 〒1048555 東京都中央区八丁堀一丁目6番1号 Tokyo JP
- Assignee: ニチアス株式会社
- Current Assignee: ニチアス株式会社
- Current Assignee Address: 〒1048555 東京都中央区八丁堀一丁目6番1号 Tokyo JP
- Agency: 渡辺 喜平
- Priority: JP2013-066240 20130327; JP2013-255067 20131210
- Main IPC: F01N3/28
- IPC: F01N3/28 ; B01D53/86
Abstract:
処理構造体と、前記処理構造体を収容するケーシングとを備えた気体処理装置において、前記処理構造体と前記ケーシングとの間に配置される無機繊維からなる保持材であって、前記保持材を、その嵩密度が所定の圧縮時嵩密度になるまで圧縮して10秒維持し、その後、前記保持材を、その嵩密度が前記圧縮時嵩密度より12%小さい開放時嵩密度になるまで開放するサイクルを繰り返す試験において、前記サイクルを2500回繰り返した時点の前記保持材の開放時面圧と前記圧縮時嵩密度とが、次の関係を満たすことを特徴とする気体処理装置用保持材。P≧17.10×D-1.62(Pは前記開放時面圧(N/cm 2 )を表し、Dは前記圧縮時嵩密度(g/cm 3 )を表す。)
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IPC分类: