Invention Application
- Patent Title: 成膜装置及び成膜方法
- Patent Title (English): Film forming device and film forming method
- Patent Title (中): 薄膜成型装置和薄膜成型方法
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Application No.: PCT/JP2014/001715Application Date: 2014-03-25
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Publication No.: WO2014156129A1Publication Date: 2014-10-02
- Inventor: 玉垣 浩
- Applicant: 株式会社神戸製鋼所
- Applicant Address: 〒6518585 兵庫県神戸市中央区脇浜海岸通二丁目2番4号 Hyogo JP
- Assignee: 株式会社神戸製鋼所
- Current Assignee: 株式会社神戸製鋼所
- Current Assignee Address: 〒6518585 兵庫県神戸市中央区脇浜海岸通二丁目2番4号 Hyogo JP
- Agency: 小谷 悦司
- Priority: JP2013-069189 20130328
- Main IPC: C23C14/56
- IPC: C23C14/56
Abstract:
プラズマの補助を受けつつ蒸着により成膜を行う成膜装置において、長時間に亘って安定的に蒸着を行う。本発明の成膜装置(1)は、圧下でフィルム基材(W)をロール・ツー・ロールで搬送しながら、フィルム基材(W)へ蒸着材料(M)を蒸着させる成膜装置(1)であって、内部が減圧されるチャンバ(2)と、チャンバ(2)内に配備されると共に基材フィルムを外周面に巻き掛けてチャンバ(2)内を案内する一対のローラ(3、3)と、蒸着材料(M)を蒸発させる蒸発装置(4)と、一対のローラ(3、3)間に交流電圧を印加するプラズマ発生電源(5)と、チャンバ(2)内にガスを導入する手段(6)と、を有し、一対のローラ(3、3)は、フィルム基材(W)を保持した表面にプラズマを生成し、蒸発手段(4)は、蒸着材料(M)を蒸発させると共にフィルム基材(W)の表面に皮膜として蒸着することを特徴とする。
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IPC分类: