Invention Application
WO2015018560A2 SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
审中-公开
MIRROR，特别适用于微型投影曝光设备
- Patent Title: SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
- Patent Title (English): Mirror, more particularly for a microlithographic projection exposure apparatus
- Patent Title (中): MIRROR，特别适用于微型投影曝光设备
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Application No.: PCT/EP2014/063349Application Date: 2014-06-25
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Publication No.: WO2015018560A2Publication Date: 2015-02-12
- Inventor: HERMANN, Martin
- Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH , HERMANN, Martin
- Applicant Address: Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- Assignee: CARL ZEISS SMT GMBH,HERMANN, Martin
- Current Assignee: CARL ZEISS SMT GMBH,HERMANN, Martin
- Current Assignee Address: Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- Agency: FRANK, Hartmut
- Priority: DE10 20130807
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20
Abstract:
Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßer Spiegel (10, 20, 30, 40) weist eine optische Wirkfläche (10a, 20a, 30a, 40a), ein Spiegelsubstrat (11, 21, 31, 41) und einen Reflexionsschichtstapel (14, 24, 34, 44) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (10a, 20a, 30a, 40a) auftreffender elektromagnetischer Strahlung auf, wobei zwischen dem Spiegelsubstrat (11, 21, 31, 41) und dem Reflexionsschichtstapel (14, 24, 34, 44) eine Schicht (13, 23, 33, 43) aus einem Gruppe-Ill-Nitrid angeordnet ist, wobei das Gruppe-Ill-Nitrid aus der Gruppe ausgewählt ist, die Galliumnitrid (GaN), Aluminiumnitrid (AIN) und Aluminium-Gallium-Nitrid (AIGaN) enthält.
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IPC分类:
