发明申请
- 专利标题： 保護膜形成フィルム、保護膜形成用シート、保護膜形成用複合シートおよび加工物の製造方法
- 专利标题（英）： Protective membrane forming film, protective membrane forming sheet, compound sheet for forming protective membrane, and product manufacturing method
- 专利标题（中）： 保护膜形成膜，保护膜形成片，用于形成保护膜的化合物片和产品制造方法
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申请号： PCT/JP2015/051566申请日： 2015-01-21
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公开(公告)号： WO2015111631A1公开(公告)日： 2015-07-30
- 发明人: 山本 大輔 , 米山 裕之
- 申请人： リンテック株式会社
- 申请人地址： 〒1730001 東京都板橋区本町23番23号 Tokyo JP
- 专利权人： リンテック株式会社
- 当前专利权人： リンテック株式会社
- 当前专利权人地址： 〒1730001 東京都板橋区本町２３番２３号 Tokyo JP
- 代理机构： 志賀 正武
- 优先权： JP2014-009242 20140122
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02 ; C09J7/02 ; H01L21/301
摘要：
波長１０６４ｎｍの光線透過率が５５％以上であり、波長５５０ｎｍの光線透過率が２０％以下であることを特徴とする保護膜形成フィルム（１）と、その保護膜形成フィルム（１）の一方の面または両面に積層された剥離シート（２１）とを備えた保護膜形成用シート（２）。かかる保護膜形成用シート（２）によれば、半導体ウエハなどのワークを、レーザーにより予備的に改質層を設け、力を与えることで分割することが可能であり、かつワークまたは加工物に存在する研削痕が目視によって見えない保護膜を形成することができる。
IPC分类:
