Invention Application
- Patent Title: 可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法
- Patent Title (English): Ultraviolet light substrate cleaning method capable of adjusting ultraviolet light irradiation energy
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Application No.: PCT/CN2014/079708Application Date: 2014-06-12
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Publication No.: WO2015176336A1Publication Date: 2015-11-26
- Inventor: 姚江波
- Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 中国广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号, Guangdong 518132 CN
- Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee Address: 中国广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号, Guangdong 518132 CN
- Agency: 深圳市德力知识产权代理事务所
- Priority: CN201410216997.4 20140521
- Main IPC: B08B7/00
- IPC: B08B7/00
Abstract:
一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法,包括如下步骤:步骤1、提供紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20);步骤2、在紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)之间设置数块遮光板(30);步骤3、转动遮光板(30),调整紫外光灯(10)发出的紫外光照射到基板(20)上的面积,从而控制单位时间内紫外光照射到基板(20)上的能量;步骤4、紫外光灯(10)发出紫外光清洗基板(20)。通过该方法可以灵活调节用于基板清洗的紫外光能量,达到既能有效去除黏附于基板表面的有机物,又能避免设于基板上的电路图形被静电击伤的目的。
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