レーザ加工装置３００は、レーザ光Ｌを出射するレーザ光源２０２と、レーザ光Ｌを加工対象物１に集光する集光光学系２０４と、レーザ光Ｌが少なくとも第１加工光及び第２加工光を含む０次光及び±ｎ次光（ｎは自然数）に分岐されて、第１加工光が第１集光点に集光されると共に第２加工光が第２集光点に集光されるように、レーザ光Ｌを変調する反射型空間光変調器２０３と、加工対象物１に集光される０次光及び±ｎ次光のうち第１加工光及び第２加工光に対して外側に集光される光を遮断する光遮断部２２０と、を備える。