Invention Application
- Patent Title: ＥＳＤ保護装置およびその製造方法
- Patent Title (English): Esd protection device and production method therefor
- Patent Title (中): ESD保护装置及其制造方法
-
Application No.: PCT/JP2015/070943Application Date: 2015-07-23
-
Publication No.: WO2016039021A1Publication Date: 2016-03-17
- Inventor: 奥冨 譲仁 , 足立 淳
- Applicant: 株式会社村田製作所
- Applicant Address: 〒6178555 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 Kyoto JP
- Assignee: 株式会社村田製作所
- Current Assignee: 株式会社村田製作所
- Current Assignee Address: 〒6178555 京都府長岡京市東神足１丁目１０番１号 Kyoto JP
- Agency: 鮫島 睦
- Priority: JP2014-184467 20140910
- Main IPC: H01T2/02
- IPC: H01T2/02 ; H01T1/20 ; H01T4/10 ; H01T4/12 ; H01T21/00
Abstract:
ＥＳＤ保護装置は、素体を有する。素体は、空洞部を有する。空洞部の内面は、Ｚ方向を含む断面において、Ｚ方向に対して傾く第１内面と第２内面と第３内面を有する。したがって、空洞部の内面の表面積を増加して、放電補助電極にかかる熱負荷を低減し、放電補助電極の劣化を抑制できる。
Information query
