Invention Application
- Patent Title: 低温多晶硅薄膜晶体管及薄膜晶体管基板
- Patent Title (English): Low-temperature polycrystalline silicon thin film transistor and thin film transistor substrate
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Application No.: PCT/CN2015/070520Application Date: 2015-01-12
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Publication No.: WO2016106825A1Publication Date: 2016-07-07
- Inventor: 陈秋权
- Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 中国广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号, Guangdong 518132 CN
- Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee Address: 中国广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号, Guangdong 518132 CN
- Agency: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
- Priority: CN201410856640.2 20141231
- Main IPC: H01L29/786
- IPC: H01L29/786
Abstract:
提供了一种低温多晶硅薄膜晶体管及薄膜晶体管基板,该低温多晶硅薄膜晶体管包括:基底(1);第一栅极(2),设置在基底(1)上;多晶硅层(3),设置在基底(1)上并覆盖第一栅极(2),其中,多晶硅层(3)包括源极区域(11)、漏极区域(12)以及形成在源极区域(11)与漏极区域(12)之间的沟道区域(13);第二栅极(4),设置在多晶硅层(3)上;其中,低温多晶硅薄膜晶体管在驱动时,第一栅极(2)与第二栅极(4)分别施加极性相反的第一电压和第二电压。通过上述方式,能够降低回踢电压,提升TFT效能。
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IPC分类: