Invention Application
- Patent Title: 一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板
- Patent Title (English): Array substrate fabrication method, array substrate, and display panel
-
Application No.: PCT/CN2015/072643Application Date: 2015-02-10
-
Publication No.: WO2016112572A1Publication Date: 2016-07-21
- Inventor: 胡宇彤
- Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 中国广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号, Guangdong 518132 CN
- Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee Address: 中国广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号, Guangdong 518132 CN
- Agency: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
- Priority: CN201510016748.5 20150113
- Main IPC: H01L33/08
- IPC: H01L33/08
Abstract:
一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板,该方法包括:在基板上先后形成第一电极及栅电极;在基板上形成绝缘层,绝缘层覆盖栅电极及第一电极;在绝缘层上形成半导体层;在半导体层上形成介质层,并开设第一通孔、第二通孔及第三通孔;在介质层上形成源电极、漏电极和第二电极,源电极及漏电极分别通过第一通孔及第二通孔与半导体层连接,第二电极通过第三通孔与第一电极连接以形成存储电容;在介质层上形成透明的第三电极,第三电极与漏电极连接以形成像素电极。通过上述方式,能够在阵列基板的制作过程中减少光罩的使用数量,减少工艺流程,降低成本。
Information query
IPC分类: