Invention Application
- Patent Title: 半導体膜の製造方法、及び色素増感太陽電池
- Patent Title (English): Method for producing semiconductor film, and dye-sensitized solar cell
- Patent Title (中): 生产半导体膜的方法和透明的太阳能电池
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Application No.: PCT/JP2016/055845Application Date: 2016-02-26
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Publication No.: WO2016136950A1Publication Date: 2016-09-01
- Inventor: 功刀 俊介 , 片桐 友章 , 藤沼 尚洋
- Applicant: 積水化学工業株式会社
- Applicant Address: 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 Osaka JP
- Assignee: 積水化学工業株式会社
- Current Assignee: 積水化学工業株式会社
- Current Assignee Address: 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 Osaka JP
- Agency: 佐伯 義文
- Priority: JP2015-037233 20150226
- Main IPC: C23C24/04
- IPC: C23C24/04 ; B05D1/10 ; B05D7/24 ; C01G23/04 ; H01G9/20 ; H01L21/368
Abstract:
[1]平均粒子径が1nm以上100nm未満の範囲である半導体粒子をアルコール中に分散させた分散液を得た後、前記分散液から前記アルコールを蒸発させて前記半導体粒子を乾燥することにより、前記半導体粒子同士が凝集した凝集粒子を得て、前記凝集粒子を基材に吹き付けることにより、前記基材上に半導体膜を製膜する、半導体膜の製造方法。[2]前記半導体粒子が前記アルコール中に沈降した状態で、前記アルコールを蒸発させて前記半導体粒子を乾燥する前記製造方法。[3]50℃未満の温度で前記アルコールを蒸発させる前記製造方法。[4]前記製造方法によって得られた半導体膜に、増感色素を吸着させてなる光電極を備えた色素増感太陽電池。
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