发明申请
- 专利标题: ニトリル類の連続接触還元による一級アミンの製造方法
- 专利标题(英): Method for producing primary amine through continuous catalytic reduction of nitrile
- 专利标题(中): 通过连续催化还原生产主要胺的方法
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申请号: PCT/JP2016/056458申请日: 2016-03-02
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公开(公告)号: WO2016143637A1公开(公告)日: 2016-09-15
- 发明人: 小沢 征巳 , 山口 智裕 , 小林 修
- 申请人: 日産化学工業株式会社 , 国立大学法人東京大学
- 申请人地址: 〒1010054 東京都千代田区神田錦町三丁目7番地1 Tokyo JP
- 专利权人: 日産化学工業株式会社,国立大学法人東京大学
- 当前专利权人: 日産化学工業株式会社,国立大学法人東京大学
- 当前专利权人地址: 〒1010054 東京都千代田区神田錦町三丁目7番地1 Tokyo JP
- 代理机构: 特許業務法人はなぶさ特許商標事務所
- 优先权: JP2015-047667 20150310
- 主分类号: C07C209/48
- IPC分类号: C07C209/48 ; C07C211/07 ; C07C211/12 ; C07C211/27 ; C07C303/40 ; C07C311/09 ; B01J23/44 ; B01J31/28 ; C07B61/00
摘要:
【課題】 低い水素圧であっても、高い選択性で且つ良好な収率で一級アミンを得ることを可能とする、ニトリル類の接触水素還元による新規な一級アミンの製造方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 溶液が送液される流路と、該流路内に、固定化された白金族金属触媒を充填したカラムを有するフロー合成システムに、酸を共存させたニトリル類を含む溶液を、水素圧が1MPa以下となる水素とともに送液することによって、前記ニトリル類を連続的に接触還元することを特徴とする、一級アミンの製造方法。