HERSTELLUNG EINES OPAKEN QUARZGLASKÖRPERS
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, iv.) Zerkleinern des Quarzglaskörpers unter Erhalt einer Quarzglaskörnung, v.) Verarbeiten des Quarzglaskörpers zu einer Vorform und vi.) Bilden eines opaken Quarzglaskörpers aus der Vorform. Die Erfindung betrifft weiterhin einen opaken Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Reaktor und eine Anordnung, die jeweils durch Weiterverarbeiten des opaken Quarzglaskörpers erhältlich sind.
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