发明申请
- 专利标题: ガラス用研磨液および研磨方法
- 专利标题(英): Polishing liquid for glass and polishing method
- 专利标题(中): 抛光液用于玻璃和抛光方法
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申请号: PCT/JP2016/088481申请日: 2016-12-22
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公开(公告)号: WO2017111078A1公开(公告)日: 2017-06-29
- 发明人: 島田 和哉 , 西川 晴香 , 家田 智之 , 三好 雄三
- 申请人: パナソニック株式会社 , 株式会社NSC
- 申请人地址: 〒5718501 大阪府門真市大字門真1006番地 Osaka JP
- 专利权人: パナソニック株式会社,株式会社NSC
- 当前专利权人: パナソニック株式会社,株式会社NSC
- 当前专利权人地址: 〒5718501 大阪府門真市大字門真1006番地 Osaka JP
- 代理机构: 廣幸 正樹
- 优先权: JP2015-251229 20151224
- 主分类号: C03C15/00
- IPC分类号: C03C15/00
摘要:
板ガラスの研磨では、前研磨と後研磨の2段研磨が行われていた。従来前研磨に用いられている研磨液は、フッ化水素酸(フッ酸)と硫酸という酸性度がきわめて強い組成が用いられている。そこで、より扱いやすい組成の研磨液が求められており、技術的な課題となっていた。 板ガラスの研磨液であって、フッ化水素酸と比誘電率が10以上40未満である有機溶媒を含むことを特徴とする研磨液は、キズを成長させることなく、前研磨を行うことができ、使用後に中和する際の汚泥発生量が抑制される。