发明申请
- 专利标题： 듀얼(이중층)-슬롯코팅 기술을 이용한 박막 복합 분리막의 단일 제조공정
- 专利标题（英）： One-step preparation process for thin film composite membrane using dual (double layer)-slot coating technique
- 专利标题（中）： 薄膜复合膜采用双（双层）槽涂布技术的单一制造工艺
-
申请号： PCT/KR2016/013636申请日： 2016-11-24
-
公开(公告)号： WO2017116009A1公开(公告)日： 2017-07-06
- 发明人: 이정현 , 정현욱 , 박성준 , 안원기 , 최완석 , 이용우
- 申请人： 고려대학교 산학협력단
- 申请人地址： 02841 서울시 성북구 안암로 145, Seoul KR
- 专利权人： 고려대학교 산학협력단
- 当前专利权人： 고려대학교 산학협력단
- 当前专利权人地址： 02841 서울시 성북구 안암로 145, Seoul KR
- 代理机构： 특허법인 다나
- 优先权： KR10-2015-0190720 20151231
- 主分类号： B01D69/12
- IPC分类号： B01D69/12 ; B01D69/10 ; B01D67/00 ; B01D71/06 ; B01D61/02 ; C02F1/44
摘要：
본 발명은 박막 복합 분리막(thin film composite membrane, 이하 TFC) 제조 공정에 관한 것으로, 듀얼(이중층)-슬롯코팅 기술을 이용하여 단일(1-step)공정으로 분리막을 제조하는 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 듀얼(이중층)-슬롯코팅 공정에서는, 반응성의 두 종류의 유기 단량체가 용해되어있는 비혼성(immiscible)의 두 용액을 다공성 지지체 위에 동시 도포/접촉시키는 단일공정을 통해 이중 용액층을 형성시키고, 이중층 계면에서 유기 단량체간의 가교반응을 통해 선택층을 합성시킴으로써, TFC 분리막을 제조할 수 있다.
