发明申请
- 专利标题: 半導体装置および半導体装置の製造方法
- 专利标题(英): WO2018088292A1 - Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device
- 专利标题(中): 半导体器件和制造半导体器件的方法
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申请号: PCT/JP2017/039495申请日: 2017-11-01
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公开(公告)号: WO2018088292A1公开(公告)日: 2018-05-17
- 发明人: 保田 雄亮
- 申请人: 株式会社日立パワーデバイス
- 申请人地址: 〒3191221 茨城県日立市大みか町五丁目2番2号 Ibaraki JP
- 专利权人: 株式会社日立パワーデバイス
- 当前专利权人: 株式会社日立パワーデバイス
- 当前专利权人地址: 〒3191221 茨城県日立市大みか町五丁目2番2号 Ibaraki JP
- 代理机构: ポレール特許業務法人
- 优先权: JP2016-220686 20161111
- 主分类号: H01L25/07
- IPC分类号: H01L25/07 ; B22F1/00 ; B22F7/08 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00 ; H01L21/52 ; H01L23/36 ; H01L25/18
摘要:
複数の半導体素子が焼結金属により基板上に接合される半導体装置において、焼結金属による接合部の接合信頼性の高い半導体装置およびその製造方法を提供する。複数の半導体素子が焼結金属によりベース基板上に接合される半導体装置であって、前記ベース基板は、第1のベース基板と、前記第1のベース基板に隣接する第2のベース基板からなり、前記第1のベース基板上に第1の焼結金属層を介して接合された第1の半導体素子と、前記第2のベース基板上に第2の焼結金属層を介して接合された第2の半導体素子と、を備え、前記第1のベース基板と前記第2のベース基板は、各々の側面同士を接合することで一体化されていることを特徴とする。
IPC分类: