Invention Application
- Patent Title: 一种场效应晶体管及其制备方法
- Patent Title (English): WO2018176537A1 - Field-effect transistor and manufacturing method therefor
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Application No.: PCT/CN2017/081774Application Date: 2017-04-25
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Publication No.: WO2018176537A1Publication Date: 2018-10-04
- Inventor: 谢华飞
- Applicant: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Applicant Address: 中国广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号, Guangdong 518132 CN
- Assignee: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Current Assignee: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Current Assignee Address: 中国广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号, Guangdong 518132 CN
- Agency: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
- Priority: CN201710203713.1 20170330
- Main IPC: H01L21/336
- IPC: H01L21/336 ; H01L29/78 ; H01L29/12 ; H01L29/16
Abstract:
提供了一种场效应晶体管及其制备方法,该方法包括在基板上沉积第一绝缘层(S11);在第一绝缘层上形成源极及漏极(S12);形成覆盖源极及漏极的碳量子点有源层(S13);在碳量子点有源层上依次形成第二绝缘层及栅极(S14)。通过上述方法,使用碳量子点为材料制备场效应晶体管中的有源层,丰富了场效应晶体管的制备材料,减少了现有技术中使用金属点膜层制备有源层时对环境的污染,同时降低了对金属元素的依赖性。
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