Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Spiegel eine optische Wirkfläche aufweist, mit einem Substrat (11, 61, 71, 81, 91), einem Reflexionsschichtsystem (16, 66, 76, 86, 96) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (10a, 60a, 70a, 80a, 90a) auftreffender elektromagnetischer Strahlung, einer auf dem Substrat (11, 61, 71, 81, 91) vorgesehenen Elektrodenanordnung (13, 63, 73, 83) aus einem ersten Material mit einer ersten elektrischen Leitfähigkeit und einer Vermittlerschicht (12, 62, 72, 82, 92) aus einem zweiten Material mit einer zweiten elektrischen Leitfähigkeit, wobei das Verhältnis zwischen der ersten und der zweiten elektrischen Leitfähigkeit wenigstens 100 beträgt, wobei der Spiegel wenigstens eine Kompensationsschicht (88) aufweist, welche den Einfluss einer thermischen Ausdehnung der Elektrodenanordnung (83) auf die Deformation der optischen Wirkfläche (80a) wenigstens teilweise kompensiert.