Invention Application
- Patent Title: 投写光学系、画像投写装置および画像投写システム
- Patent Title (English): WO2018179607A1 - Projection optical system, image projection device, and image projection system
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Application No.: PCT/JP2017/044305Application Date: 2017-12-11
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Publication No.: WO2018179607A1Publication Date: 2018-10-04
- Inventor: 内田 恒夫 , 山田 克
- Applicant: パナソニックIPマネジメント株式会社
- Applicant Address: 〒5406207 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号 Osaka JP
- Assignee: パナソニックIPマネジメント株式会社
- Current Assignee: パナソニックIPマネジメント株式会社
- Current Assignee Address: 〒5406207 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号 Osaka JP
- Agency: 鎌田 健司
- Priority: JP2017-064391 20170329
- Main IPC: G02B17/08
- IPC: G02B17/08 ; G02B13/16 ; G02B13/18
Abstract:
投写光学系(100)は、被投写面(SC)に画像を投写するために用いられ、縮小側の像面と被投写面(SC)側の像面とを共役の関係にする投写光学系であって、透過光学系(110)と、反射光学系(120)とを備える。透過光学系(110)は、開口絞りと、それぞれパワーを有する複数のレンズとを含む。反射光学系(120)は、透過光学系(110)からの射出光を反射する。基準光線の主光線は、被投写面(SC)の最も投写光学系(100)側に投写される光線のうち開口絞りの中心を通る光線である。投写光学系(100)は、縮小側の像面と共役な中間像面を透過光学系(110)と反射光学系(120)の間に有し、0.70<|Pex|/Tl<40を満足する。
Information query
IPC分类:
G | 物理 |
G02 | 光学 |
G02B | 光学元件、系统或仪器 |
G02B17/00 | 有或无折射元件的具有反射面的系统 |
G02B17/08 | .折反射系统 |