- 专利标题: コーティング液、コーティング液の製造方法、および水素ガス感応性膜の製造方法
- 专利标题(英): COATING LIQUID, METHOD FOR PREPARING COATING LIQUID, AND METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN GAS SENSITIVE FILM
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申请号: PCT/JP2018/037599申请日: 2018-10-09
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公开(公告)号: WO2019087705A1公开(公告)日: 2019-05-09
- 发明人: 西澤 かおり , 山田 保誠 , 吉村 和記
- 申请人: 国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 西澤 かおり , 山田 保誠 , 吉村 和記
- 申请人地址: 〒1008921 東京都千代田区霞が関一丁目3番1号 Tokyo JP
- 专利权人: 国立研究開発法人産業技術総合研究所,西澤 かおり,山田 保誠,吉村 和記
- 当前专利权人: 国立研究開発法人産業技術総合研究所,西澤 かおり,山田 保誠,吉村 和記
- 当前专利权人地址: 〒1008921 東京都千代田区霞が関一丁目3番1号 Tokyo JP
- 代理机构: 伊東 忠重
- 优先权: JP2017-214050 20171106
- 主分类号: B01J23/652
- IPC分类号: B01J23/652 ; B01J37/16 ; C09D1/00 ; C09D5/38 ; C09D7/61 ; C09D7/63 ; G01N31/00
摘要:
塩化タングステンと、前記塩化タングステンを溶解する炭素数1~4の一価のアルコールと、前記アルコールに溶解され、還元性を有するカルボン酸と、前記カルボン酸によって還元されることによって水素ガスに対する感応性を有する金属触媒となる金属の化合物とを含むことを特徴とするコーティング液。