La présente description concerne un procédé de fabrication d'un système optique (5) comprenant une couche (24) comprenant des trous traversants ou partiellement traversants (26) et recouverte d'une matrice d'éléments optiques de taille micrométrique (14). Le système optique comprend une face (22) destinée à recevoir un premier rayonnement. Le procédé comprend l'exposition d'un film (24), du même matériau que la couche ou d'un matériau différent de celui de la couche, à un deuxième rayonnement au travers de la matrice d'éléments optiques de taille micrométrique (14), ledit matériau étant photosensible au deuxième rayonnement ou usinable par le deuxième rayonnement et le retrait des parties du film exposées ou non exposées au deuxième rayonnement pour délimiter les trous (26) traversant totalement ou partiellement ladite couche.