Invention Application
WO2020153638A1 포토폴리머 조성물
审中-公开
- Patent Title: 포토폴리머 조성물
- Patent Title (English): PHOTOPOLYMER COMPOSITION
-
Application No.: PCT/KR2020/000496Application Date: 2020-01-10
-
Publication No.: WO2020153638A1Publication Date: 2020-07-30
- Inventor: 장석훈 , 김헌 , 권세현 , 장영래
- Applicant: 주식회사 엘지화학
- Applicant Address: 07336 서울시 영등포구 여의대로 128, Seoul KR
- Assignee: 주식회사 엘지화학
- Current Assignee: 주식회사 엘지화학
- Current Assignee Address: 07336 서울시 영등포구 여의대로 128, Seoul KR
- Agency: 유미특허법인
- Priority: KR10-2019-0009986 20190125
- Main IPC: C08F2/50
- IPC: C08F2/50 ; C08F263/04 ; C08F2/44 ; C08L31/04 ; C08K5/02 ; C08K5/521 ; G11B7/08 ; G11B7/2533
Abstract:
본 발명은, 80℃이하의 유리 전이 온도를 갖는 고분자 매트릭스 또는 이의 전구체; 광반응성 단량체; 저굴절율 불소계 화합물; 및 광개시제;를 포함하는 홀로그램 형성용 포토폴리머 조성물과 상기 포토폴리머 조성물로부터 제조된 홀로그램 기록 매체와, 상기 홀로그램 기록 매체를 포함한 광학 소자와 상기 홀로그램 기록 매체을 이용한 홀로그래픽 기록 방법에 관한 것이다.
Information query
