Invention Application
- Patent Title: VERFAHREN ZUM ZWEISTUFIGEN FORMIEREN VON KONTAKTEN EINER VAKUUMSCHALTVORRICHTUNG
- Patent Title (English): METHOD FOR THE TWO-STAGE FORMATION OF CONTACTS OF A VACUUM SWITCHING DEVICE
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Application No.: PCT/EP2021/056295Application Date: 2021-03-12
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Publication No.: WO2021197803A1Publication Date: 2021-10-07
- Inventor: GRASKOWSKI, Frank , HARZ, Steve , SCHÜMANN, Ulf , STIEHLER, Christian , ULBRICH, Frank
- Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- Applicant Address: Werner-von-Siemens-Straße 1
- Assignee: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- Current Assignee: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- Current Assignee Address: Werner-von-Siemens-Straße 1
- Priority: DE10 2020 204 312.4 2020-04-02
- Main IPC: H01H33/664
- IPC: H01H33/664 ; H01H11/043
Abstract:
Verfahren zum zweistufigen Formieren von Kontakten einer Vakuumschaltvorrichtung Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Formieren von Kontakten (1, 2) einer Vakuumschaltvorrichtung (100), mit den folgenden Schritten: S1) Erzeugen eines Lichtbogens zwischen den Oberflächen der Kontakte (1, 2) mittels einer Gleichstromquelle für eine erste Zeitdauer; S2) Löschen des Lichtbogens durch Verringern der Stromstärke der Gleichstromquelle; und S3) nachfolgendes Anlegen einer Wechselspannung für eine zweite Zeitdauer auf die Kontakte (1, 2). Die vorliegende Erfindung bezieht sich auch auf eine Vakuumschaltvorrichtung (100), die dazu konfiguriert ist, das Verfahren auszuführen.
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