Invention Application
- Patent Title: インダクタの製造方法および電子部品の製造方法
- Patent Title (English): METHOD FOR MANUFACTURING INDUCTOR AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT
-
Application No.: PCT/JP2021/034154Application Date: 2021-09-16
-
Publication No.: WO2022070962A1Publication Date: 2022-04-07
- Inventor: 見上 竜雄
- Applicant: 富士フイルム株式会社
- Applicant Address: 〒1068620 東京都港区西麻布2丁目26番30号 Tokyo
- Assignee: 富士フイルム株式会社
- Current Assignee: 富士フイルム株式会社
- Current Assignee Address: 〒1068620 東京都港区西麻布2丁目26番30号 Tokyo
- Agency: 特許業務法人特許事務所サイクス
- Priority: JP2020-165828 2020-09-30
- Main IPC: H01F17/00
- IPC: H01F17/00 ; H01F17/04 ; H01F41/04
Abstract:
第1の磁性層を形成すること、第1の磁性層上に第2の磁性層および導電性層のいずれか一方の不連続層を形成し、他方を上記不連続層の不連続部に形成すること、を含み、上記第2の磁性層の厚さは上記導電性層の厚さより厚く、上記第2の磁性層と上記導電性層との厚さの違いにより生じた溝部に第3の磁性層を形成することを更に含むインダクタの製造方法、ならびに、上記製造方法によってインダクタを作製することを含む、インダクタを含む電子部品の製造方法が提供される。
Information query
IPC分类:
H | 电学 |
H01 | 基本电气元件 |
H01F | 磁体;电感;变压器;磁性材料的选择 |
H01F17/00 | 信号类型的固定电感器 |