Invention Application
- Patent Title: LOKAL SELEKTIVE BESTRAHLUNG EINES ARBEITSBEREICHS MIT EINER VON EINER KREISFORM ABWEICHENDE STRAHLFORM
- Patent Title (English): LOCAL SELECTIVE IRRADIATION OF A WORKING AREA WITH A NON-CIRCULAR BEAM SHAPE
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Application No.: PCT/EP2021/076485Application Date: 2021-09-27
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Publication No.: WO2022073785A1Publication Date: 2022-04-14
- Inventor: MEINERS, Wilhelm , LEUCK, Sarah
- Applicant: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
- Applicant Address: Johann-Maus-Strasse 2
- Assignee: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
- Current Assignee: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
- Current Assignee Address: Johann-Maus-Strasse 2
- Agency: TRUMPF PATENTABTEILUNG
- Priority: DE10 2020 006 216.4 2020-10-09
- Main IPC: B22F10/366
- IPC: B22F10/366 ; B22F10/28 ; B22F10/85 ; B22F12/45 ; B33Y30/00 ; B33Y50/02 ; B23K26/073
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Planungseinrichtung (15) zur Planung einer lokal selektiven Bestrahlung eines Arbeitsbereichs (11) mit einem Energiestrahl (7), um mittels des Energiestrahls (7) ein Bauteil (3) aus einem in dem Arbeitsbereich (11) angeordneten Pulvermaterial herzustellen, wobei die Planungseinrichtung (15) eingerichtet ist, um eine Mehrzahl von Bestrahlungsvektoren (21) zur Bestrahlung einer in dem Arbeitsbereich (11) angeordneten Pulvermaterialschicht mit dem Energiestrahl (7) zu erhalten, wobei die Planungseinrichtung (15) eingerichtet ist, um für mindestens einen Bestrahlungsvektor (21) der Mehrzahl von Bestrahlungsvektoren (21) eine Vektor-Ausrichtung in einem Koordinatensystem auf dem Arbeitsbereich (11) zu bestimmen, und wobei die Planungseinrichtung (15) eingerichtet ist, um für den mindestens einen Bestrahlungsvektor (21) eine Strahl-Ausrichtung für eine von einer Kreisform abweichende Strahlform (18) des Energiestrahls (7) auf dem Arbeitsbereich (11) relativ zu der Vektor-Ausrichtung des mindestens einen Bestrahlungsvektors (21) vorzugeben.
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