- 专利标题: VERFAHREN ZUM EINSCHREIBEN POLARISATIONSBEEINFLUSSENDER NANOSTRUKTUREN IN EIN TRANSPARENTES MATERIAL
- 专利标题(英): METHOD FOR WRITING POLARIZATION-INFLUENCING NANOSTRUCTURES INTO A TRANSPARENT MATERIAL
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申请号: PCT/EP2022/061380申请日: 2022-04-28
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公开(公告)号: WO2022233711A1公开(公告)日: 2022-11-10
- 发明人: KUMKAR, Malte , ZIMMERMANN, Felix
- 申请人: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
- 申请人地址: Johann-Maus-Strasse 2
- 专利权人: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
- 当前专利权人: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
- 当前专利权人地址: Johann-Maus-Strasse 2
- 代理机构: TRUMPF PATENTABTEILUNG
- 优先权: DE10 2021 204 578.2 2021-05-06
- 主分类号: C03C23/00
- IPC分类号: C03C23/00 ; B23K26/53
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Einschreiben polarisationsbeeinflussenderNanostrukturen (13) in ein transparentes Material (5), umfassend die Schritte: Fokussiertes Einstrahlen mindestens eines ultrakurzen Laserpulses (3) in das transparente Material (5) als mindestens ein Initiierungspuls (3) zur Erzeugung vonNano-Wechselwirkungszonen (7) in einem Initiierungsfokusbereich (1) des Initiierungspulses (3) und fokussiertes Einstrahlen mindestens eines weiteren ultrakurzen Laserpulses (11) in das transparente Material (5) als mindestens ein Ausbildungspuls (11). Dabei umfasst ein Ausbildungsfokusbereich (9) des Ausbildungspulses (11) zumindest einen Teil der Nano-Wechselwirkungszonen (7) räumlich und aus den Nano-Wechselwirkungszonen (7) im Ausbildungsfokusbereich (9) bilden sich polarisationsbeeinflussende Nanostrukturen (13), die eine Doppelbrechung in dem transparenten Material (5) bewirken. Der mindestens eine Initiierungspuls (3) und der mindestens eine Ausbildungspuls (11) unterscheiden sich in mindestens einem Prozessparameter. Eine Ausrichtung (A) der Doppelbrechung in dem transparenten Material ist von einer Polarisation (EA) des mindestens einen Ausbildungspulses (11) abhängig.