Invention Application
- Patent Title: 含フッ素ピラゾール化合物およびその製造方法
- Patent Title (English): FLUORINE-CONTAINING PYRAZOLE COMPOUND AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
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Application No.: PCT/JP2022/038421Application Date: 2022-10-14
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Publication No.: WO2023068200A1Publication Date: 2023-04-27
- Inventor: 清野 淳弥 , 青津 理恵 , 小金 敬介
- Applicant: ユニマテック株式会社
- Applicant Address: 〒1050012 東京都港区芝大門1丁目12番15号 Tokyo
- Assignee: ユニマテック株式会社
- Current Assignee: ユニマテック株式会社
- Current Assignee Address: 〒1050012 東京都港区芝大門1丁目12番15号 Tokyo
- Agency: アインゼル・フェリックス=ラインハルト
- Priority: JP2021-171113 2021-10-19
- Main IPC: C07D231/20
- IPC: C07D231/20 ; C07D231/52 ; C07D405/12 ; C07D417/04 ; C07D417/12
Abstract:
3位にハロゲン原子、含酸素置換基、または含窒素置換基、4位にトリフルオロメチル基、5位に含酸素置換基を有する新規な含フッ素ピラゾール化合物、および、該含フッ素ピラゾール化合物を簡易的に製造することが可能な製造方法を提供すること。 下記一般式(1)で表される、含フッ素ピラゾール化合物。(上記一般式(1)において、Rは炭素数1~12の炭化水素基を表し、Xは、ハロゲン原子、窒素および酸素からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を環原子として含む複素環基、-OA1、または-NA1A2を表し、A1、A2はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1~10の有機基を表す)
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