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公开(公告)号：CN114258487B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202080058219.0
申请日：2020-08-18
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
Inventor： 马特乌斯·斯佩克
IPC: G01N27/26 , G01N27/30 , G01N27/333
Abstract: 本发明涉及一种用于电位传感器的传感器元件，包括：基材和布置在基材上的离子选择性搪瓷层，基材具有与离子选择性搪瓷层导电地电连接的至少一个区域，其中，基材的与传感器层导电地电连接的区域由具有至少60％的铜的质量分数的铜基合金制成。
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公开(公告)号：CN112230011B
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202010645282.6
申请日：2020-07-07
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
IPC: G01N35/10
Abstract: 本发明涉及流体引导模块和有至少两个流体引导模块的流体引导系统，引导模块包括：壳体，具有位于其中并沿第一轴线延伸且具有第一端和与第一端轴向地隔开的第二端的传感器腔室；第一区域，用于连接到第二引导模块，其位于壳体的第一外侧上并沿第二轴线延伸并具有第一改向通道，其沿第二轴线延伸并具有第一端和与该第一端轴向地隔开的第二端；入口通道，将第一通道端流体地联接到第一腔室端，其中第一通道适合于流体地联接到第二引导模块的出口通道；第二区域，用于连接到第三引导模块，其位于壳体的第二外侧上并沿平行于第二轴线的第三轴线延伸；出口通道，将第二区域流体地联接到第一腔室端，其中出口通道适合于连接到第三引导模块的入口通道。
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公开(公告)号：CN118169084A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202311689188.0
申请日：2023-12-11
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
IPC: G01N21/64
Abstract: 本发明涉及校准标准件、传感器设备和用途，校准标准件是用于对光学传感器(100)进行调校、校准和/或对光学传感器执行功能检验的校准附件(50)，该光学传感器被设计成用于借助光测量介质(5)中的至少一个测量参量，其中，传感器(100)被设计成用于至少射出在200nm至700nm、尤其是200nm至500nm范围内的波长的发射光，校准附件包括壳体(52)；和布置在壳体(52)中的主体(51)，其中，主体(51)包括镨和铈，并且其中，在利用发射光激发之后，主体(51)射出具有不同的波长、尤其是更长的波长的光。本发明还公开了具有这种校准附件的传感器设备和校准附件的用途。
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公开(公告)号：CN111324553B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN201911249635.4
申请日：2019-12-09
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
Inventor： 斯特凡·肯普夫
IPC: G06F12/02
Abstract: 本发明涉及一种在嵌入式系统上实现虚拟地址空间的方法。包括步骤：提供具有定义物理地址空间的物理存储器、加载器和执行单元的嵌入式系统；提供可由嵌入式系统执行并具有至少一个程序范围的程序，该至少一个程序范围具有相应访问特征并具有用于虚拟地址空间的预定存储器布局，被分配给虚拟地址空间中的虚拟地址并具有程序大小；通过加载器在嵌入式系统上创建虚拟地址空间，其包括具有相同段大小并具有分开的虚拟开始地址的至少两个段，包括第一和第二段；通过加载器针对程序在嵌入式系统上创建转换表，用于将至少一个程序范围的虚拟地址转换为物理存储器中的物理地址；通过执行单元或者程序用转换表将对虚拟地址的存储器访问转换为物理地址。
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公开(公告)号：CN118067618A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202311527598.5
申请日：2023-11-16
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
IPC: G01N21/01
Abstract: 本发明涉及测量池、测量池插座和具有测量池的测量装置。本发明描述了可以成本有效地制造并且易于操纵、插入和/或更换的测量池(1)、用于接收测量池(1)的测量池插座(3)和测量装置(100，200)，测量装置包括测量池插座(3，3’)；被或可以被夹持在测量池插座(3，3’)中的测量池(1)；以及用于测量流过测量池(1)的测量室(7)或位于测量室(7)中的介质的至少一个测量变量的传感器(5，5’)。测量池(1)包括测量室(7)和弹簧系统，介质可以流过测量室(7)或可以用介质填充测量室(7)，测量池(1)可以利用弹簧系统在与测量室(7)的测量室轴线(L)有关的至少一个夹持方向上夹持在测量池插座(3，3′)中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118057159A
公开(公告)日：2024-05-21
申请号：CN202311548322.5
申请日：2023-11-17
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
Inventor： 拉尔夫·伯恩哈特
IPC: G01N21/41 , G01N21/64 , G01N15/075
Abstract: 本发明涉及用于透明介质的被测对象的光学测量的方法和传感器。描述了一种用于测量透明介质(1)的一个或至少两个被测对象的方法，其中借助于相机(3)通过介质(1)的预定形状的体积(V)获取图案(5)的图片(A)，并且基于介质(1)的体积(V)对图案(5)的图片(A)的影响来确定被测对象的测量值并使其可用，所述影响是被测对象的特性并取决于其值。此外，描述了一种被设计成执行该方法的传感器。
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公开(公告)号：CN111079779B
公开(公告)日：2024-05-21
申请号：CN201910982316.8
申请日：2019-10-16
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
IPC: G06F18/211 , G06F18/241
Abstract: 本发明涉及一种使用用于选择测量方法的分类器来确定过程变量的方法。该方法用于确定介质(M)的至少一个过程变量(P)，尤其是计算机实现的方法，包括以下方法步骤：借助于用于确定过程变量(P)的第一方法(V1)来记录用于过程变量(P)的第一值(y1)；借助于用于确定过程变量(P)的第二方法(V2)来记录用于过程变量(P)的第二值(y2)；借助于分类器(K)来选择用于过程变量(P)的检测的值(y2，w1)中的至少一个；以及，输出用于过程变量(P)的选择的值(y2)。本发明还涉及一种被设计用于执行根据本发明的方法的计算机程序，并且涉及一种具有根据本发明的计算机程序的计算机程序产品。
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公开(公告)号：CN117783552A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311229021.6
申请日：2023-09-21
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
Inventor： 安德烈·莱姆克 , 布·奥特斯藤 , 亚历山大·施瓦尔贝 , 尤塔·保罗斯-纳埃斯
IPC: G01N35/00
Abstract: 本发明涉及远程控制测量、校准和/或调节传感器的应用程序的方法。在过程自动化技术中的方法包括以下步骤：将所述传感器(3)连接到手持式测量设备(2)，其中，所述手持式测量设备(2)包括至少一个操作按钮(1)；建立从所述手持式测量设备(2)到移动设备(5)的数据连接(7)，其中，应用程序(6)在所述移动设备(5)上被执行；致动所述操作按钮(1)并通过所述数据连接(7)将所述操作按钮(1)中存储的功能(8)或数据传输到所述移动设备(5)的应用程序(6)；以及处理所述应用程序(6)中的功能或数据。本发明还公开了用于执行所述方法的一种测量系统(1)和计算机程序。
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公开(公告)号：CN112415064B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202010830576.6
申请日：2020-08-18
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
IPC: G01N27/30 , G01N27/333
Abstract: 本发明涉及一种制造用于电位传感器的传感器元件的方法，该离子选择性传感器元件(1)具有传感器元件体(3)和布置在该传感器元件体上的至少一个玻璃层(5、9)，该方法包括：通过热喷涂方法将至少一个玻璃层(5、9)施加到传感器元件体(3)上，其中，将玻璃颗粒的粉末喷涂到传感器元件体(3)上。
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公开(公告)号：CN113933452B
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202110777679.5
申请日：2021-07-07
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
IPC: G01N31/16 , G01N21/79 , G01N27/416
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