沉积掩模
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102691031A

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201110456767.1

    申请日:2011-12-27

    CPC classification number: C23C14/042 C23C16/042

    Abstract: 本发明公开了一种沉积掩模。在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉力而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第n初始设计图案在内的第一初始设计图案至第n初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第n校正图案,第一初始设计图案至第n初始设计图案沿第一方向顺序地布置,其中,第一校正图案至第n校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧,其中,第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第n初始设计图案向内凹进,第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。

    掩膜框架组件、其制造方法及制造有机发光显示器的方法

    公开(公告)号:CN102569673A

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN201110341551.0

    申请日:2011-11-02

    CPC classification number: C23C14/042 Y10T29/49863 Y10T428/24314

    Abstract: 本发明提供一种掩膜框架组件、其制造方法及制造有机发光显示器的方法。所述掩膜框架组件包括框架和安装在所述框架上同时在第一方向上被拉伸的掩膜。所述掩膜包括:包括多个沉积图案部分的沉积区域,形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度并且包括在所述沉积区域的两侧上沿第一方向延伸的第一边缘和第二边缘的边缘单元,以及形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度、形成在相邻的沉积图案部分之间并且在第二方向上延伸的两个或更多个肋,其中所述第二方向垂直于所述第一方向。

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