一种基于液氮约束层的激光冲击强化方法

    公开(公告)号:CN109182725A

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201810967909.2

    申请日:2018-08-23

    CPC classification number: C21D10/005

    Abstract: 本发明属于激光冲击强化领域,并公开了一种基于液氮约束层的激光冲击强化方法。方法包括下列步骤:(a)将待加工工件表面进行降温,然后其表面涂覆用于吸收激光能量的材料作为吸收层;将待加工工件固定并向吸收层喷射液氮形成流动的液氮层,即约束层;(b)采用激光照射步骤待加工工件表面,激光穿过约束层抵达吸收层,吸收层吸收激光能量气化产生等离子体并不断吸收激光的能量升温膨胀,最后爆炸形成高压冲击波向待加工工件内部传播,使得待加工工件发生塑性变形,从而增加待加工工件中晶粒位错密度和致密度提高,晶格尺寸降低。通过本发明,提高待加工工件的位错密度,降低晶格尺寸,提高了航空发动机叶片表面的抗疲劳强度,延长其使用寿命。

    一种一步式双层微液滴生成装置及方法

    公开(公告)号:CN110787846A

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201911072923.7

    申请日:2019-11-05

    Abstract: 本发明公开了一种一步式双层微液滴生成装置包括微量流体注射模块、微流控芯片和液滴收集模块,微流控芯片的入口和出口通过毛细管分别连接于微量流体注射模块和液滴收集模块;微流控芯片为轴对称结构,对称轴上分别设置有外部相入口、中部相入口、内部相入口、流动聚焦模块和液滴出口,流动聚焦模块为5入1出的对称六连通结构,外部相入口经一个三通模块后通过微流道连接于流动聚焦模块的A口和E口,中部相入口经一个三通模块后通过微流道连接于流动聚焦模块的B口和D口,内部相入口通过微流道连接于流动聚焦模块的C口,流动聚焦模块的F口连接于液滴出口。本发明结构简单,简化了微流控芯片的制作工序,缩短了制作周期,提高了生产效率。

    一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法

    公开(公告)号:CN110202420A

    公开(公告)日:2019-09-06

    申请号:CN201910529489.4

    申请日:2019-06-19

    Abstract: 本发明属于流体辅助微纳抛光技术领域,并具体公开了一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法,其包括上液压单元、下液压单元、抛光腔和励磁线圈,上液压单元和下液压单元分设于抛光腔两端,并与抛光腔导通形成用于容纳磁流变抛光液的容纳腔,磁流变抛光液在上液压单元和下液压单元的共同作用下达到预设压力并做上下往复运动;抛光腔的内部用于放置待抛光工件,其外部套装有励磁线圈,通过对励磁线圈通电以在抛光腔内形成绕抛光腔轴线旋转的磁场,磁流变抛光液在旋转磁场的作用下运动以实现待抛光工件的抛光。本发明具有结构简单、抛光过程可控性强、效率高、抛光均匀,没有表面损伤等优点。

    一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置及方法

    公开(公告)号:CN110340736B

    公开(公告)日:2021-05-18

    申请号:CN201910529415.0

    申请日:2019-06-19

    Abstract: 本发明属于超精密光学元件抛光领域,并具体公开了一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置及方法,其包括端盖、套筒、抛光头外壳和隔磁转轴,端盖和抛光头外壳与套筒两端连接,抛光头外壳上开设有进液口和出液口;隔磁转轴安装在套筒内,其一端穿过端盖与外部旋转动力源相连,另一端嵌装有永磁体,并插入抛光头外壳内,与抛光头外壳内部形成流动聚焦腔,出液口位于永磁体正下方;抛光时,磁流变抛光液一部分在隔磁转轴端面处受永磁体作用形成宾汉体,另一部分在流动聚焦腔内流动并经出液口喷出,该部分在流动时产生流体动压力对宾汉体进行挤压塑形,以形成平均直径小于出液口直径的宾汉体小抛光头。本发明实现不同表面形状工件的高效抛光。

    一种一步式双层微液滴生成装置及方法

    公开(公告)号:CN110787846B

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN201911072923.7

    申请日:2019-11-05

    Abstract: 本发明公开了一种一步式多层微液滴生成装置包括微量流体注射模块、微流控芯片和液滴收集模块,微流控芯片的入口和出口通过毛细管分别连接于微量流体注射模块和液滴收集模块;微流控芯片为轴对称结构,对称轴上分别设置有外部相入口、中部相入口、内部相入口、流动聚焦模块和液滴出口,流动聚焦模块为5入1出的对称六连通结构,外部相入口经一个三通模块后通过微流道连接于流动聚焦模块的A口和E口,中部相入口经一个三通模块后通过微流道连接于流动聚焦模块的B口和D口,内部相入口通过微流道连接于流动聚焦模块的C口,流动聚焦模块的F口连接于液滴出口。本发明结构简单,简化了微流控芯片的制作工序,缩短了制作周期,提高了生产效率。

    一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置及方法

    公开(公告)号:CN110340736A

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201910529415.0

    申请日:2019-06-19

    Abstract: 本发明属于超精密光学元件抛光领域,并具体公开了一种基于流场聚焦的磁流变抛光装置及方法,其包括端盖、套筒、抛光头外壳和隔磁转轴,端盖和抛光头外壳与套筒两端连接,抛光头外壳上开设有进液口和出液口;隔磁转轴安装在套筒内,其一端穿过端盖与外部旋转动力源相连,另一端嵌装有永磁体,并插入抛光头外壳内,与抛光头外壳内部形成流动聚焦腔,出液口位于永磁体正下方;抛光时,磁流变抛光液一部分在隔磁转轴端面处受永磁体作用形成宾汉体,另一部分在流动聚焦腔内流动并经出液口喷出,该部分在流动时产生流体动压力对宾汉体进行挤压塑形,以形成平均直径小于出液口直径的宾汉体小抛光头。本发明实现不同表面形状工件的高效抛光。

Patent Agency Ranking