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公开(公告)号：CN108754418B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201810684093.2
申请日：2018-06-28
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种具有手性旋光性质的自支持手性纳米中空锥阵列薄膜及其制备方法，属于手性材料技术领域。本发明涉及掩模刻蚀方法、物理气相沉积方法、胶体微球界面组装方法以及微纳结构液相转移方法。整个过程操作简便，过程低耗清洁，可控性高。通过结合胶体刻蚀与可控掠射角沉积技术，可以制备大面积具有手性旋光性质的自支持手性纳米中空锥阵列薄膜。其手性信号可以通过调整阵列的微结构形貌进行调控，其所提供的手性等离子体空腔对手性限域检测有重要的应用价值。该手性阵列结构的成膜性可使其更容易从原有基底上脱离，从而形成自支持材料，进一步通过后续的转移操作，可制备出诸如柔性手性材料等更具实用性的材料。
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公开(公告)号：CN106770165B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201611194612.4
申请日：2016-12-22
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种基于表面等离子体共振诱导化学反应制备的具有纳米孔中包含银纳米粒子复合结构的表面增强拉曼基底及其制备方法，属于表面增强拉曼基底技术领域。本发明涉及到掩模刻蚀方法、物理气相沉积方法以及一些组织方面的方法。操作简便，过程低耗清洁，可控性高。由于金纳米二维孔中银纳米粒子的存在，使得结构在表面增强拉曼上有着潜在的应用前景，并且银纳米粒子的生长程度是可控的，这样我们就可以通过控制光照时间的长短，调节拉曼信号的强度。除了制备这样一种拉曼信号强度可控的复合结构以外，更重要的是这种利用表面等离子体共振在光激发下场的增强来实现化学反应的诱导，是一种新的理念，将会在以后的化学合成及制备中有着很高的应用价值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106770165A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611194612.4
申请日：2016-12-22
Applicant: 吉林大学
CPC classification number: G01N21/658 , B81C1/00349 , B81C1/00523 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种基于表面等离子体共振诱导化学反应制备的具有纳米孔中包含银纳米粒子复合结构的表面增强拉曼基底及其制备方法，属于表面增强拉曼基底技术领域。本发明涉及到掩模刻蚀方法、物理气相沉积方法以及一些组织方面的方法。操作简便，过程低耗清洁，可控性高。由于金纳米二维孔中银纳米粒子的存在，使得结构在表面增强拉曼上有着潜在的应用前景，并且银纳米粒子的生长程度是可控的，这样我们就可以通过控制光照时间的长短，调节拉曼信号的强度。除了制备这样一种拉曼信号强度可控的复合结构以外，更重要的是这种利用表面等离子体共振在光激发下场的增强来实现化学反应的诱导，是一种新的理念，将会在以后的化学合成及制备中有着很高的应用价值。
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公开(公告)号：CN108754418A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810684093.2
申请日：2018-06-28
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种具有手性旋光性质的自支持手性纳米中空锥阵列薄膜及其制备方法，属于手性材料技术领域。本发明涉及掩模刻蚀方法、物理气相沉积方法、胶体微球界面组装方法以及微纳结构液相转移方法。整个过程操作简便，过程低耗清洁，可控性高。通过结合胶体刻蚀与可控掠射角沉积技术，可以制备大面积具有手性旋光性质的自支持手性纳米中空锥阵列薄膜。其手性信号可以通过调整阵列的微结构形貌进行调控，其所提供的手性等离子体空腔对手性限域检测有重要的应用价值。该手性阵列结构的成膜性可使其更容易从原有基底上脱离，从而形成自支持材料，进一步通过后续的转移操作，可制备出诸如柔性手性材料等更具实用性的材料。
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公开(公告)号：CN109900642B
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN201910182458.6
申请日：2019-03-12
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种亚微米级光学微型反应器及其制备方法，属于材料技术领域。本发明通过控制刻蚀时间或条件，调整气相沉积的金属种类，利用液相翻制的方法，我们可以得到不同空腔尺寸及不同材料种类的亚微米级倒置中空锥阵列结构。根据所得的结构的具体参数，在理论计算软件的辅助下，我们可以找到合适的光源条件，使结构的等离子体共振增强场被限域在空腔内部，进一步利用该增强场去实现增益并限域化学反应，从而达到光学微型反应器的效果。除此之外，倒置中空锥与基底的点接触方式，使其成为一种自支持结构，这意味着它的光学效应不受基底的影响，因此，该亚微米级光学微型反应器的应用场景将会得到极大的拓宽，为其进一步实际应用奠定基础。
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公开(公告)号：CN110923681A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201911289953.3
申请日：2019-12-16
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种表面等离子体共振诱导的多级结构及其修饰方法，属于材料科学技术领域。本发明依次利用胶体微球气液界面自组装方法、掩膜刻蚀方法和物理气相沉积方法制备出金属中空锥薄膜结构，然后利用微纳结构液相转移翻制的方法将金属中空锥阵列薄膜倒置于目标基底上，进而得到金属倒置中空纳米锥阵列薄膜结构。本发明通过调节市售LED光源照射时间，可以很好地控制银纳米粒子的大小和分布。此外，本方法还可用于修饰金纳米粒子和聚吡咯粒子。本发明中，金属倒置中空纳米锥阵列薄膜仅作为一种实验实施的具体结构，实际上，这种方法适用于各种具有表面等离子体共振的微纳结构的表面修饰，可用于大面积修饰多级结构。
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公开(公告)号：CN109900642A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201910182458.6
申请日：2019-03-12
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种亚微米级光学微型反应器及其制备方法，属于材料技术领域。本发明通过控制刻蚀时间或条件，调整气相沉积的金属种类，利用液相翻制的方法，我们可以得到不同空腔尺寸及不同材料种类的亚微米级倒置中空锥阵列结构。根据所得的结构的具体参数，在理论计算软件的辅助下，我们可以找到合适的光源条件，使结构的等离子体共振增强场被限域在空腔内部，进一步利用该增强场去实现增益并限域化学反应，从而达到光学微型反应器的效果。除此之外，倒置中空锥与基底的点接触方式，使其成为一种自支持结构，这意味着它的光学效应不受基底的影响，因此，该亚微米级光学微型反应器的应用场景将会得到极大的拓宽，为其进一步实际应用奠定基础。
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