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公开(公告)号：CN109415589B
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN201780037324.4
申请日：2017-06-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09D183/04 , B32B9/00 , C08K3/36 , C08L33/06 , C09D133/00 , C09D133/02 , C09D175/04 , C09D7/61
Abstract: 本发明提供一种膜形成用组合物以及层叠体的制造方法，该膜形成用组合物含有：以下述式(1)所表示的硅氧烷化合物的水解物、二氧化硅粒子、酮类溶剂以及水。式(1)中，R1、R2、R3以及R4分别独立地表示碳原子数1～6的1价有机基。n表示2～20的整数。
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公开(公告)号：CN109937141A
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201780068151.2
申请日：2017-10-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B32B27/00 , C09D7/40 , C09D183/04
Abstract: 本发明提供一种层叠体，该层叠体具有基材和设置于上述基材上的至少一部分上的防雾层，上述防雾层含有硅氧烷粘合剂、二氧化硅粒子及吸水性有机高分子，上述防雾层具有上述二氧化硅粒子沉积而成的结构，且在防雾层表面具有由上述二氧化硅粒子产生的凹凸结构，且在防雾层内部具有空隙，上述防雾层的膜密度为0.80g/cm3以上且1.40g/cm3以下，上述防雾层的膜厚超过1μm且10μm以下。
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公开(公告)号：CN109415589A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780037324.4
申请日：2017-06-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09D183/04 , B32B9/00 , C08K3/36 , C08L33/06 , C09D133/00 , C09D133/02 , C09D175/04 , C09D7/61
Abstract: 本发明提供一种膜形成用组合物以及层叠体的制造方法，该膜形成用组合物含有：以下述式(1)所表示的硅氧烷化合物的水解物、二氧化硅粒子、酮类溶剂以及水。式(1)中，R1、R2、R3以及R4分别独立地表示碳原子数1～6的1价有机基。n表示2～20的整数。
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公开(公告)号：CN119866267A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202380065770.1
申请日：2023-09-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在长期保管覆盖膜与基材的贴合体时的与基材的密合性更优异的覆盖膜。本发明的覆盖膜具有支撑体及包含聚合物的聚合物层，上述支撑体包含源自木浆的三乙酸纤维素，上述聚合物层满足以下要件1。要件1：将从上述覆盖膜剥离的聚合物层浸渍于25℃下的二甲苯前后的聚合物层的残留率为10～50质量％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114867684B
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202080089262.3
申请日：2020-12-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C01B21/064 , C08L61/06 , C08L101/00 , C08L63/00 , C08K3/38
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公开(公告)号：CN114867684A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202080089262.3
申请日：2020-12-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C01B21/064 , C08L61/06 , C08L101/00 , C08L63/00 , C08K3/38
Abstract: 本发明提供一种能够用于制作导热性及剥离强度优异的导热材料的氮化硼粒子。并且，提供一种关于上述氮化硼粒子的、导热材料形成用组合物、导热材料、导热片及带导热层的器件。本发明的氮化硼粒子通过X射线光电子能谱分析检测出的表面的氧原子浓度相对于硼原子浓度的原子浓度比为0.12以上，并且，由下述式(1)求出的D值为0.010以下。式(1)：D值＝B(OH)3(002)/BN(002)，B(OH)3(002)：源自通过X射线衍射测定的具有三斜晶系空间群的氢氧化硼的(002)面的峰值强度；BN(002)：源自通过X射线衍射测定的具有六方晶系空间群的氮化硼的(002)面的峰值强度。
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公开(公告)号：CN111989375B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201980025542.5
申请日：2019-04-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09D183/02 , B05D7/24 , B32B27/00 , C09D7/20 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D139/06 , C09K3/18 , G02B1/18
Abstract: 本发明提供一种能够形成雾度低且防雾性及耐污染性优异的防雾膜的涂层剂、雾度低且防雾性及耐污染性优异的防雾膜、防雾膜的制造方法或层叠体。涂层剂包含由通式(1)表示的化合物的水解物、二氧化硅粒子、沸点为120℃以上的高沸点溶剂及在侧链上具有吡咯烷酮基的树脂。通式(1)中，R1、R2、R3及R4分别独立地表示碳原子数1～6的1价有机基团。n表示1～20的整数。
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公开(公告)号：CN111989375A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN201980025542.5
申请日：2019-04-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09D183/02 , B05D7/24 , B32B27/00 , C09D7/20 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D139/06 , C09K3/18 , G02B1/18
Abstract: 本发明提供一种能够形成雾度低且防雾性及耐污染性优异的防雾膜的涂层剂、雾度低且防雾性及耐污染性优异的防雾膜、防雾膜的制造方法或层叠体。涂层剂包含由通式(1)表示的化合物的水解物、二氧化硅粒子、沸点为120℃以上的高沸点溶剂及在侧链上具有吡咯烷酮基的树脂。通式(1)中，R1、R2、R3及R4分别独立地表示碳原子数1～6的1价有机基团。n表示1～20的整数。
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