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公开(公告)号:CN101128768A
公开(公告)日:2008-02-20
申请号:CN200680005708.X
申请日:2006-02-20
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: G02F1/035
CPC classification number: G02F1/2255 , G02F1/0123 , G02F2001/212 , G02F2201/58 , G02F2203/20
Abstract: 本发明提供一种对在三维光波导(5)中传播的光施加电压来调制该光的光调制器。光调制器具有:三维光波导(5),其含有至少一对分支光波导(5c)、(5d),分支光波导的合波部(5e)以及该合波部下游侧的出射部(5f);调制用电极(3A、3B、4),其用于施加对在三维光波导(5)中传播的光进行调制的信号电压;以及1次模式光导向波导(6A、6B),其对来自合波部的1次模式光进行导向。至少在调制用电极下基板的厚度是20μm以下,根据来自导向波导的光输出,使施加到调制用电极的直流偏压变化,由此可控制光调制器的工作点。
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公开(公告)号:CN105765803B
公开(公告)日:2020-01-07
申请号:CN201480063856.1
申请日:2014-11-18
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 不使用珀耳帖元件就能够抑制跳模,提高波长稳定性,并抑制光强度变动。光栅元件1包含:支撑基板10,光学材料层11,其设置在支撑基板上、厚度为0.5μm~3.0μm,脊型光波导,其是在上述光学材料层上由一对脊型沟槽形成的,具有射入半导体激光的入射面和射出所需波长的出射光的出射面,布拉格光栅12,其由形成在光波导内的凹凸所构成;及传播部13,其设置在入射面和布拉格光栅之间。该光栅元件1满足式(1)~式(4)的关系:0.8nm≤ΔλG≤6.0nm···(1):10μm≤Lb≤300μm···(2):20nm≤td≤250nm···(3):nb≥1.8···(4)。
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公开(公告)号:CN106233176A
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201580018709.7
申请日:2015-04-22
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: G02B6/136 , G02B5/1857 , G02B6/124 , G02B6/132 , G02B2006/12097
Abstract: 本发明在具有安装基板3、安装基板上的包层22及包层上的光学材料层23的层叠体的规定位置形成多个布拉格光栅9,以包含各布拉格光栅的方式分别形成通道型光波导16,在光学材料层上形成掩模,该掩模被覆与光栅元件对应的区域,通过对光学材料层及包层进行刻蚀来成型各光栅元件1的侧面1a及端面1b。
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公开(公告)号:CN101075002A
公开(公告)日:2007-11-21
申请号:CN200710104639.4
申请日:2007-05-18
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: G02B6/12
CPC classification number: G02B6/1225 , B82Y20/00 , G02F2202/32
Abstract: 本发明提供一种在设置于平面型二维光子晶体上的光波导结构中,呈现出优良的光子晶体特性,并且减小其波长依赖性而能够在宽广频段的波长范围中使用的光功能器件。至少从光波导(1)看包含于第n个(n为1、2、3、4或5)晶格列(Tn)的电介质柱(Hn)的平面形状是正多边形或正圆形。从光波导(1)看包含于第n个晶格列(Tn)的电介质柱(Hn)的直径rn(n=2、3、4或5)中至少一个与基本直径r0不同。
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公开(公告)号:CN101031842A
公开(公告)日:2007-09-05
申请号:CN200580032777.5
申请日:2005-09-28
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: G02F1/035
CPC classification number: G02F1/035 , G02F1/0508
Abstract: 本发明涉及光功能器件。光功能器件具备:电介质基板(5);配置在电介质基板(5)上且由具有光电效果的材质构成的铁电体薄层(10);以及配置在该铁电体薄层(10)上的电极(3A、3B)。使铁电体薄层(10)的一部分作为光波导的芯(9)起作用,使电介质基板(5)作为光波导的金属包层起作用,光波导(9)在铁电体薄层(10)的至少深度方向D作为多模波导而构成。
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公开(公告)号:CN106233175B
公开(公告)日:2020-01-03
申请号:CN201580020713.7
申请日:2015-04-13
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 光栅元件2A包括:支撑基板、光学材料层1、具有射入激光的入射面和射出所需波长的出射光的出射端的脊型光波导3A、以及由形成在光波导内的凹凸构成的布拉格光栅20。光波导包含:设置在入射面1a与布拉格光栅20之间的入射部3a和设置在入射部与布拉格光栅之间的锥形部3b。传播光在布拉格光栅中进行单模传播。入射部处的光波导的宽度Win大于布拉格光栅处的光波导Wgr的宽度,锥形部处的光波导的宽度Wt自入射部朝向布拉格光栅减小。满足式(1)~式(3)的关系。0.8nm≤△λG≤6.0nm···(1),10μm≤Lb≤300μm···(2),20nm≤td≤250nm···(3)(在式(1)中,△λG是所述布拉格光栅的布拉格反射率的峰值的半高宽。在式(2)中,Lb是所述布拉格光栅的长度。在式(3)中,td是构成所述布拉格光栅的凹凸的深度)。
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公开(公告)号:CN105765803A
公开(公告)日:2016-07-13
申请号:CN201480063856.1
申请日:2014-11-18
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 不使用珀耳帖元件就能够抑制跳模,提高波长稳定性,并抑制光强度变动。光栅元件1包含:支撑基板10,光学材料层11,其设置在支撑基板上、厚度为0.5μm~3.0μm,脊型光波导,其是在上述光学材料层上由一对脊型沟槽形成的,具有射入半导体激光的入射面和射出所需波长的出射光的出射面,布拉格光栅12,其由形成在光波导内的凹凸所构成;及传播部13,其设置在入射面和布拉格光栅之间。该光栅元件1满足式(1)~式(4)的关系:0.8nm≤ΔλG≤6.0nm···(1):10μm≤Lb≤300μm···(2):20nm≤td≤250nm···(3):nb≥1.8···(4)。
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公开(公告)号:CN103430084A
公开(公告)日:2013-12-04
申请号:CN201280012843.2
申请日:2012-03-16
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: G02F1/035 , G01N15/1434 , G02B6/122 , G02F1/2252 , G02F1/2255 , G02F2001/212 , G02F2201/05 , G02F2201/063 , G02F2201/066 , G02F2201/127 , G02F2202/28 , G02F2203/21 , G02F2203/50 , G02F2203/60
Abstract: 本发明的光调制元件包括:具有一对沟槽以及在这些沟槽之间的突起部支撑基板;由电光晶体构成且形成有进行多模传播的沟道型光波导的脊部;形成在脊部的一侧且由电光晶体构成;形成在脊部的另一侧且由电光晶体构成;用于粘接第一侧板部和支撑基板的第一粘接层;用于粘接第二侧板部和支撑基板的第二粘接层;以及用于粘接脊部和突起部的第三粘接层。本元件还具备:第一电极,设置在脊部的第一沟槽侧的侧面、第一侧板部的侧面以及第一侧板部上面;第二电极,设置在脊部的第二沟槽侧的侧面、第二沟槽、第二侧板部的侧面以及第二侧板部的上面。通过施加于第一电极和第二电极之间的调制电压来对在沟道型光波导中传播的光进行调制。
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公开(公告)号:CN101310210A
公开(公告)日:2008-11-19
申请号:CN200680042782.9
申请日:2006-11-15
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 在光波导基板的末端部分使光波导折回的方式的光波导器件中,使调制频带能够宽带化。光波导器件(1A)具备:由光电材料构成的基板主体(2);光波导(6);以及用于向光波导(6)施加电压的调制用电极(3、4、5)。光波导(6)具备:第一主部(6e、6f);第一弯曲部(7A);设置在第一弯曲部(7A)和折回点(8)之间的第一折回部(6g、6h);第二主部(6m、6n);第二弯曲部(7B);以及设置在第二弯曲部(7B)和折回点(8)之间的第二折回部(6j、6k)。在从第一弯曲部(7A)及第二弯曲部(7B)到折回点(8)的折回区域设有信号电极的至少一部分。
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公开(公告)号:CN106233176B
公开(公告)日:2019-08-16
申请号:CN201580018709.7
申请日:2015-04-22
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: G02B6/136 , G02B5/1857 , G02B6/124 , G02B6/132 , G02B2006/12097
Abstract: 本发明在具有安装基板3、安装基板上的包层22及包层上的光学材料层23的层叠体的规定位置形成多个布拉格光栅9,以包含各布拉格光栅的方式分别形成通道型光波导16,在光学材料层上形成掩模,该掩模被覆与光栅元件对应的区域,通过对光学材料层及包层进行刻蚀来成型各光栅元件1的侧面1a及端面1b。
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