清洗溶剂及清洗方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101679922B

    公开(公告)日:2011-11-09

    申请号:CN200880019133.6

    申请日:2008-06-04

    CPC分类号: C11D7/5018 C11D7/5022

    摘要: 本发明提供对于熔剂或含熔剂物质等的清洗性好且不存在闪点的清洗溶剂。此外,本发明的目的还在于提供可在不用担心清洗溶剂闪燃的情况下对熔剂或含熔剂物质等进行清洗的清洗方法。本发明的清洗溶剂包含87~94质量%的(2,2,2-三氟乙氧基)-1,1,2,2-四氟乙烷和6~13质量%的丙酮。本发明的清洗方法包括使物品与第一清洗溶剂接触的溶剂接触工序以及在该溶剂接触工序后将所述物品暴露于使第二清洗溶剂蒸发而产生的蒸气中的蒸气接触工序,第一清洗溶剂及第二清洗溶剂为所述清洗溶剂。

    清洗溶剂及清洗方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101679922A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200880019133.6

    申请日:2008-06-04

    CPC分类号: C11D7/5018 C11D7/5022

    摘要: 本发明提供对于熔剂或含熔剂物质等的清洗性好且不存在闪点的清洗溶剂。此外,本发明的目的还在于提供可在不用担心清洗溶剂闪燃的情况下对熔剂或含熔剂物质等进行清洗的清洗方法。本发明的清洗溶剂包含87~94质量%的(2,2,2-三氟乙氧基)-1,1,2,2-四氟乙烷和6~13质量%的丙酮。本发明的清洗方法包括使物品与第一清洗溶剂接触的溶剂接触工序以及在该溶剂接触工序后将所述物品暴露于使第二清洗溶剂蒸发而产生的蒸气中的蒸气接触工序,第一清洗溶剂及第二清洗溶剂为所述清洗溶剂。