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公开(公告)号:CN114846362A
公开(公告)日:2022-08-02
申请号:CN202080089111.8
申请日:2020-10-29
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 防反射膜(20),使用离子辅助蒸镀装置(40),而形成在由含有40质量%以上的氟化物的材料形成的透镜基板(10)上。防反射膜(20)的第1下层为氟化物层。形成防反射膜(20)的第1下层和第2下层的至少下半部分时到达第1下层和第2下层的至少下半部分的离子的第1能量和每第1单位时间内的量为相对较小。
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公开(公告)号:CN114846362B
公开(公告)日:2023-12-29
申请号:CN202080089111.8
申请日:2020-10-29
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 防反射膜(20),使用离子辅助蒸镀装置材料形成的透镜基板(10)上。防反射膜(20)的第1下层为氟化物层。形成防反射膜(20)的第1下层和第2下层的至少下半部分时到达第1下层和第2下层的至少下半部分的离子的第1能量和每第1单位时间内的量为相对较小。(40),而形成在由含有40质量%以上的氟化物的
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公开(公告)号:CN113031122A
公开(公告)日:2021-06-25
申请号:CN202011515509.1
申请日:2020-12-21
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明提供一种带防反射膜的光学透镜、投影透镜以及投影透镜光学系统。带防反射膜的光学透镜(1)具有透镜基板(10)和防反射膜(20)。防反射膜(20)至少由十层构成。构成防反射膜(20)的各层的物理厚度为140nm以下。550nm的设计基准波长下的第一层(21)至第十层(30)的1/4波长光学厚度(Q1)至(Q10)满足式(1)至式(10)。
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公开(公告)号:CN109154679A
公开(公告)日:2019-01-04
申请号:CN201780031679.2
申请日:2017-05-19
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 投影透镜LN具有透镜基板10和形成在透镜基板10的表面的至少由八层构成的防反射膜20。从空气侧起数,防反射膜20的第一层21的材料为MgF2,第二层22、第四层24、第六层26以及第八层28的折射率为2.0~2.3,第三层23、第五层25以及第七层27的材料为SiO2,在设计主波长λ0=550nm的情况下的、相对于透镜基板10的折射率ns的第一层21~第八层28的1/4波长光学膜厚Q1~Q8满足预先决定的式(1)~式(8)。
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公开(公告)号:CN113031122B
公开(公告)日:2023-06-27
申请号:CN202011515509.1
申请日:2020-12-21
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明提供一种带防反射膜的光学透镜、投影透镜以及投影透镜光学系统。带防反射膜的光学透镜(1)具有透镜基板(10)和防反射膜(20)。防反射膜(20)至少由十层构成。构成防反射膜(20)的各层的物理厚度为140nm以下。550nm的设计基准波长下的第一层(21)至第十层(30)的1/4波长光学厚度(Q1)至(Q10)满足式(1)至式(10)。
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公开(公告)号:CN109154679B
公开(公告)日:2021-05-14
申请号:CN201780031679.2
申请日:2017-05-19
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 投影透镜(LN)具有透镜基板(10)和形成在透镜基板(10)的表面的至少由八层构成的防反射膜(20)。从空气侧起数,防反射膜(20)的第一层(21)的材料为MgF2,第二层(22)、第四层(24)、第六层(26)以及第八层(28)的折射率为2.0~2.3,第三层(23)、第五层(25)以及第七层(27)的材料为SiO2,在设计主波长λ0=550nm的情况下的、相对于透镜基板(10)的折射率ns的第一层(21)~第八层(28)的1/4波长光学膜厚Q1~Q8满足预先决定的式(1)~式(8)。
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公开(公告)号:CN110691996A
公开(公告)日:2020-01-14
申请号:CN201880034026.4
申请日:2018-03-09
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 光学元件在光学元件基板上具有防反射膜。防反射膜具有从空气侧起依次交替地层叠八层以上的由SiO2构成的低折射率膜和由TiO2、Nb2O5或者Ta2O5构成的一种以上的高折射率膜而成的构造。在防反射膜中,若将设计主波长设为550nm,则从空气侧起数而得的第一层~第六层的1/4波长光学膜厚为:在第一层的低折射率膜中为0.94±0.05,在第二层的高折射率膜中为1.29±0.25,在第三层的低折射率膜中为0.08±0.05,在第四层的高折射率膜中为0.45±0.20,在第五层的低折射率膜中为2.05±0.20,在第六层的高折射率膜中为0.45±0.20。
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