公开(公告)号：CN105340375A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201480036725.4

申请日：2014-04-17

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 川边茂寿 ,  斋藤笃志

IPC: H05K9/00 ,  B05D1/26 ,  B05C5/00

CPC classification number: H05K9/0094 ,  B05C5/007 ,  B05C9/06 ,  H05K9/0088

Abstract: 本发明提供一种即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。在具有高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构的电磁波屏蔽膜的制造方法中，具有涂布工序：使用具有多个层叠的挡杆40的滑动式模涂机，使构成高折射率层的第1涂布液L1的涂布层与构成低折射率层的第2涂布液L2的涂布层交替地层叠，对膜基材进行同时复层涂布。挡杆40具有：前端部56，其与邻接的另一挡杆40之间形成间隙58；基端部50，与另一挡杆4抵接；以及袋部53，其位于前端部56与基端部50之间且具有作为涂布液积存部的凹部54。袋部53的厚度D4为15mm以下，涂布工序中，供给第2涂布液L2的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P2与供给第1涂布液L1的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P1的压力差ΔP被设定为0.1MPa以下。

公开(公告)号：CN108693590B

公开(公告)日：2021-01-05

申请号：CN201810299165.1

申请日：2018-04-04

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 金子由纪 ,  北条大介 ,  畠山晋平 ,  须贝宪 ,  园田泰史 ,  川边茂寿 ,  近藤达 ,  南条崇

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13363 ,  H01L51/52

Abstract: 本发明提供光学膜、偏光板、显示装置以及光学膜的制造方法。光学膜是迟相轴在膜面内相对于膜外形的一边倾斜10～80°的膜。当将该光学膜在90℃下进行120小时放置前后的进相轴方向以及迟相轴方向的尺寸变化率分别设为ΔDF(％)以及ΔDL(％)时，所述光学膜在沿着所述一边的方向的中央部以及两端部满足0％≦ΔDF

公开(公告)号：CN108693590A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810299165.1

申请日：2018-04-04

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 金子由纪 ,  北条大介 ,  畠山晋平 ,  须贝宪 ,  园田泰史 ,  川边茂寿 ,  近藤达 ,  南条崇

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13363 ,  H01L51/52

Abstract: 本发明提供光学膜、偏光板、显示装置以及光学膜的制造方法。光学膜是迟相轴在膜面内相对于膜外形的一边倾斜10～80°的膜。当将该光学膜在90℃下进行120小时放置前后的进相轴方向以及迟相轴方向的尺寸变化率分别设为ΔDF(％)以及ΔDL(％)时，所述光学膜在沿着所述一边的方向的中央部以及两端部满足0％≦ΔDF