公开(公告)号：CN103796830B

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201280042683.6

申请日：2012-08-24

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 河野纯一 ,  江连秀敏

IPC: B32B23/02 ,  B29C41/24 ,  B29C47/00 ,  B29C55/02 ,  B29C71/02 ,  B32B5/02 ,  B32B9/00 ,  G02F1/1333 ,  B29K1/00 ,  B29L7/00 ,  B29L9/00

CPC classification number: G02B1/105 ,  B29C41/24 ,  B29C47/0021 ,  B29C47/065 ,  B29C55/12 ,  B29K2001/08 ,  B29K2995/0067 ,  B29K2995/0069 ,  G02B1/14 ,  Y10T428/31975

Abstract: 本发明提供气体阻隔性膜及其制造方法、以及使用了其的电子元件用基板。本发明的气体阻隔性膜具有片状基材和形成于上述片状基材的至少单面的气体阻隔层，所述片状基材含有纤维素纳米纤维的羟基的氢原子的至少一部分被碳数1～8的酰基取代了的表面改性纤维素纳米纤维，基体树脂的含量相对于上述纤维素纳米纤维和所述基体树脂的总量为10质量％以下。另外，本发明的气体阻隔性膜的制造方法，具有将纤维素纳米纤维的羟基的氢原子的至少一部分用碳数1～8的酰基进行取代而得到表面改性纤维素纳米纤维、将上述表面改性纤维素纳米纤维用熔融挤出法或溶液浇铸法进行制膜而得到片状基材的工序A和在上述片状基材上形成气体阻隔层的工序B。

公开(公告)号：CN103562756B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201280024554.4

申请日：2012-05-17

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 河野纯一 ,  野岛隆彦

IPC: G02B5/26 ,  B32B7/02 ,  B32B27/20 ,  B32B27/30 ,  G02B5/28

CPC classification number: G02B5/26 ,  G02B1/04 ,  G02B5/206 ,  G02B5/208 ,  Y10T428/24942

Abstract: 本发明提供一种红外屏蔽膜，其制造成本低廉，可以进行膜的大面积化，红外线的反射性优异，可见光透射率高，且光学特性的均匀性优异。一种红外屏蔽膜，其在基体材料上具备至少1个具有低折射率层和高折射率层的单元，所述低折射率层含有第一金属氧化物粒子及第一粘合剂，所述高折射率层在与该低折射率层邻接的位置上，其含有第二金属氧化物粒子及第二粘合剂，且折射率高于该低折射率层，该低折射率层及该高折射率层中的至少1层含有下述(a)～(c)中的至少1种作为粘合剂：(a)羧基乙烯基聚合物，其具有全部组成的20～75质量%的含有羧酸的单体成分；(b)具有pH粘度依赖性的共聚物；(c)改性聚乙烯醇。

公开(公告)号：CN103562756A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：CN201280024554.4

申请日：2012-05-17

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 河野纯一 ,  野岛隆彦

IPC: G02B5/26 ,  B32B7/02 ,  B32B27/20 ,  B32B27/30 ,  G02B5/28

CPC classification number: G02B5/26 ,  G02B1/04 ,  G02B5/206 ,  G02B5/208 ,  Y10T428/24942

Abstract: 本发明提供一种红外屏蔽膜，其制造成本低廉，可以进行膜的大面积化，红外线的反射性优异，可见光透射率高，且光学特性的均匀性优异。一种红外屏蔽膜，其在基体材料上具备至少1个具有低折射率层和高折射率层的单元，所述低折射率层含有第一金属氧化物粒子及第一粘合剂，所述高折射率层在与该低折射率层邻接的位置上，其含有第二金属氧化物粒子及第二粘合剂，且折射率高于该低折射率层，该低折射率层及该高折射率层中的至少1层含有下述(a)～(c)中的至少1种作为粘合剂：(a)羧基乙烯基聚合物，其具有全部组成的20～75质量%的含有羧酸的单体成分；(b)具有pH粘度依赖性的共聚物；(c)改性聚乙烯醇。

公开(公告)号：CN103796830A

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201280042683.6

申请日：2012-08-24

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 河野纯一 ,  江连秀敏

IPC: B32B23/02 ,  B29C41/24 ,  B29C47/00 ,  B29C55/02 ,  B29C71/02 ,  B32B5/02 ,  B32B9/00 ,  G02F1/1333 ,  B29K1/00 ,  B29L7/00 ,  B29L9/00

CPC classification number: G02B1/105 ,  B29C41/24 ,  B29C47/0021 ,  B29C47/065 ,  B29C55/12 ,  B29K2001/08 ,  B29K2995/0067 ,  B29K2995/0069 ,  G02B1/14 ,  Y10T428/31975

Abstract: 本发明提供气体阻隔性膜及其制造方法、以及使用了其的电子元件用基板。本发明的气体阻隔性膜具有片状基材和形成于上述片状基材的至少单面的气体阻隔层，所述片状基材含有纤维素纳米纤维的羟基的氢原子的至少一部分被碳数1～8的酰基取代了的表面改性纤维素纳米纤维，基体树脂的含量相对于上述纤维素纳米纤维和所述基体树脂的总量为10质量％以下。另外，本发明的气体阻隔性膜的制造方法，具有将纤维素纳米纤维的羟基的氢原子的至少一部分用碳数1～8的酰基进行取代而得到表面改性纤维素纳米纤维、将上述表面改性纤维素纳米纤维用熔融挤出法或溶液浇铸法进行制膜而得到片状基材的工序A和在上述片状基材上形成气体阻隔层的工序B。