光学膜、光学膜制造方法和有机发光电子器件制造方法

    公开(公告)号:CN111247657B

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN201880067869.4

    申请日:2018-10-23

    Abstract: 本申请涉及光学膜、用于制备光学膜的方法和用于制造有机发光电子装置的方法。所述光学膜包括:基础层,所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层;以及保护层,所述保护层包括保护膜、各自设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层、以及设置在所述第三抗静电层的与面对所述保护膜的表面相反的表面上的离型层,其中所述基础层和所述保护层通过粘合剂层粘结使得所述第二抗静电层和所述离型层彼此面对;所述粘合剂层的与所述离型层接触的表面的表面电阻大于或等于109Ω/sq且小于或等于5×1012Ω/sq;以及所述粘合剂层在100kHz下的相对介电常数为3.5或更大。

    光学膜、光学膜制造方法和有机发光电子器件制造方法

    公开(公告)号:CN111247657A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN201880067869.4

    申请日:2018-10-23

    Abstract: 本申请涉及光学膜、用于制备光学膜的方法和用于制造有机发光电子装置的方法。所述光学膜包括:基础层,所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层;以及保护层,所述保护层包括保护膜、各自设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层、以及设置在所述第三抗静电层的与面对所述保护膜的表面相反的表面上的离型层,其中所述基础层和所述保护层通过粘合剂层粘结使得所述第二抗静电层和所述离型层彼此面对;所述粘合剂层的与所述离型层接触的表面的表面电阻大于或等于109Ω/sq且小于或等于5×1012Ω/sq;以及所述粘合剂层在100kHz下的相对介电常数为3.5或更大。

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