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发明公开
用于具有专用低溅射率离子束的颗粒控制的高入射角石墨审中-实审

公开(公告)号：CN118575248A

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202280089615.9

申请日：2022-12-20

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 戴维·伯特内尔 , 奈尔·巴森

IPC: H01J37/05 , H01J37/317

Abstract: 用于离子注入系统的离子源被配置为沿着束线从预定种类形成离子束，其中离子束具有初始能量。减速组件被配置为将离子束减速至小于初始能量的最终能量。工件支撑件被配置为沿着束线在减速组件下游的工件平面支撑工件。束线组件沿着束线定位在减速组件的下游。束线组件具有至少部分地被离子束撞击的特征，并且其中该特征具有相对于离子束具有预定入射角的表面。预定入射角在最终能量下提供离子束的预定溅射率，从而减轻离子种类在束线组件上的沉积。

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