一种超导带材表面均匀镀铜的装置及方法

    公开(公告)号:CN116479504A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310189955.5

    申请日:2023-03-02

    摘要: 本发明涉及一种超导带材表面均匀镀铜的装置及方法,包括:支撑组件和电镀组件,支撑组件包括支撑架和横杆,两根横杆平行设置在支撑架之间;两根横杆相对的一侧均开设有第一凹槽;电镀组件包括安装卡条和铜片,两根安装卡条分别设置在两个第一凹槽内,两个安装卡条相对的一侧均开设有第二凹槽,且第二凹槽内均设置有铜片,两个铜片之间通过超导带材。本发明通过在超导带材的两侧增加辅助阴极的方式,分担了超导带材在电镀过程中两侧密集的电力线,将容易产生电镀的尖端效应的镀层附着在辅助阴极的表面;超导带材的两侧有均匀的电力线,保证在超导带材的表面得到均匀的镀层,提高了超导带材在和后续缠绕线圈时的平整性。

    一种电化学抛光液循环过滤装置

    公开(公告)号:CN216639701U

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202123404305.3

    申请日:2021-12-31

    IPC分类号: C25F3/16

    摘要: 本实用新型公开一种电化学抛光液循环过滤装置,包括过滤槽,其包括相连接的未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽,未过滤抛光液槽的一端具有进液端口,进液端口与抛光液存储槽连接,过滤抛光液槽的一端具有出液端口,出液端口与抛光槽连接,抛光液存储槽和所述抛光槽之间也连接;过滤机构,连接于未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽之间;循环机构设于出液端口与抛光槽之间;过滤槽、过滤机构、循环机构、抛光液存储槽和抛光槽构成循环连接。能够稳定的控制抛光液电压,进而稳定抛光电压等抛光生产工艺中的各项参数,可以除掉抛光液中的金属盐,除掉基带表面麻点,降低粗糙度值,提高了基带性能。