光学指纹感测器
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112711976A

    公开(公告)日:2021-04-27

    申请号:CN202011137744.X

    申请日:2020-10-22

    Inventor: 王唯科 邱怡华

    Abstract: 本发明提供一种光学指纹感测器。该光学指纹感测器包括基板、第一遮光层以及第二遮光层。基板具有多个光电转换单元;第一遮光层设置于该基板上,该第一遮光层具有多个第一开孔;第二遮光层设置于该第一遮光层上,该第二遮光层具有多个第二开孔群组,其中每一该第一开孔对应每一该第二开孔群组。

    影像感测器及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117423707A

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202310862439.4

    申请日:2023-07-14

    Abstract: 本发明提供一种影像感测器及其制造方法,该影像感测器的控制方法包含以下操作:形成透镜层于基材上方;形成图案化硬掩膜层于透镜层上;蚀刻透镜层,以转移图案化硬掩膜层的图案至透镜层,从而定义出多个透镜,其中所述多个透镜为微透镜或超颖表面透镜;形成包覆层,以覆盖所述多个透镜和基材;蚀刻包覆层的部分,以形成第一倾斜侧壁与第二倾斜侧壁,其中第一倾斜侧壁在第二倾斜侧壁上方,其中第一倾斜侧壁于基材上的投影与第二倾斜侧壁于基材上的投影间隔开。该影像感测器的制造方法可以改善影像感测器的性能。该影像感测器可以防止不同材料之间的分层以及应力不平衡,从而提供良好的光学性能。

    感测装置以及其使用方法

    公开(公告)号:CN114192199A

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN202110711005.5

    申请日:2021-06-25

    Abstract: 本公开提供一种感测装置以及其使用方法。感测装置包含第一基板、第二基板、流道以及第一反应群组。第二基板与第一基板相对设置,流道设置于第一基板与第二基板之间,且流道包含流体边界。第一反应群组设置于第一基板上且包含第一反应部位、第二反应部位以及第三反应部位,第一反应部位比第二反应部位更靠近流体边界,且第一反应部位的尺寸大于或等于第二反应部位的尺寸,第二反应部位比第三反应部位更靠近流体边界,且第二反应部位的尺寸大于第三反应部位的尺寸。

    光学指纹感测器
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112711976B

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202011137744.X

    申请日:2020-10-22

    Inventor: 王唯科 邱怡华

    Abstract: 本发明提供一种光学指纹感测器。该光学指纹感测器包括基板、第一遮光层以及第二遮光层。基板具有多个光电转换单元;第一遮光层设置于该基板上,该第一遮光层具有多个第一开孔;第二遮光层设置于该第一遮光层上,该第二遮光层具有多个第二开孔群组,其中每一该第一开孔对应每一该第二开孔群组。

    感测装置以及其使用方法

    公开(公告)号:CN114192199B

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202110711005.5

    申请日:2021-06-25

    Abstract: 本公开提供一种感测装置以及其使用方法。感测装置包含第一基板、第二基板、流道以及第一反应群组。第二基板与第一基板相对设置,流道设置于第一基板与第二基板之间,且流道包含流体边界。第一反应群组设置于第一基板上且包含第一反应部位、第二反应部位以及第三反应部位,第一反应部位比第二反应部位更靠近流体边界,且第一反应部位的尺寸大于或等于第二反应部位的尺寸,第二反应部位比第三反应部位更靠近流体边界,且第二反应部位的尺寸大于第三反应部位的尺寸。

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