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公开(公告)号：CN110629274A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201910807712.7
申请日：2019-08-29
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
IPC分类号： C25D17/06
摘要： 本发明公开一种夹持机构及电镀装置，夹持机构包括相对可活动且可拆卸地固定的两个夹框；电镀装置包括夹持机构。其中，两个夹框可在限位状态与打开状态之间切换，在限位状态下，两个夹框的相邻于空心内腔的一周内侧壁上在相互抵接位置处围成槽口连通于空心内腔的限位凹槽的限位状态；限位凹槽用于供板材的四周边缘嵌入，限位凹槽槽底对板材的长度方向和宽度方向进行限位，板材不会从限位凹槽内脱离出来，避免掉板的现象发生；同时，限位凹槽的两槽壁之间的距离L1大于板材的厚度L0，以在两个槽壁之间形成供板材活动的活动间隙L2，板材在其厚度方向上不会受到限位凹槽的两槽壁的夹紧力，避免板材因为夹紧力过大，损伤板材表面的现象发生。
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公开(公告)号：CN110608670A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910842955.4
申请日：2019-09-06
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
摘要： 一种光幕检测装置，包括光幕发射单元、光幕接收单元，光幕接收单元与光幕发射单元相对设置，接收来自光幕发射单元发出的光束；以及透明保护壳，包括分别密封设置的第一保护壳和第二保护壳，所述光幕发射单元和光幕接收单元外分别设于第一保护壳和所述第二保护壳内；所述第一保护壳与所述第二保护壳相对面之间形成有供产品经过的检测通道。相较于常规的光电开关，光幕所能检测到的范围更广；透明保护壳，能够降低光幕传感器结构受外界影响例如水滴迸溅等情况下的不准确概率。
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公开(公告)号：CN108747807B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN201810764845.6
申请日：2018-07-12
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
摘要： 本发明公开一种输送设备，包括基架，及可滑动地设置在基架上的传输带，沿竖向悬挂在传输带上的悬挂结构；悬挂结构包括固定架、转动件及限位机构。固定架的顶部固定在传输带上；转动件的可转动地水平安装在固定架的底部上；限位机构具有可转动地安装在固定架上的连接件，及分别安装在连接件的两端上，连接件在驱动力下转动，以带动限位件的底部插接在转动件上或脱离所述转动件。连接件在固定架上形成杆杠，连接件逆时针转动，使得限位件的底部插接在转动件上，转动件与固定架处于相对固定的状态；连接件逆时针转动时，限位件解除对转动件的限位，使得转动件相对于固定架可以转动所需角度，提高输送设备的工作准确度。
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公开(公告)号：CN118547363A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202310739732.1
申请日：2023-06-21
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及电镀设备技术领域，尤其涉及一种飞靶循环运输系统及电镀设备。该飞靶循环运输系统包括机架、升降装置和飞靶装置。其中，机架上设置有工艺层和运输层，工艺层位于运输层的下方。升降装置设置在机架上，且升降装置位于工艺层和运输层之间。飞靶装置设置在工艺层和/或运输层上，升降装置能够将飞靶装置由工艺层运输至运输层，且升降装置能够将飞靶装置由运输层运输至工艺层，以使飞靶装置在工艺层和运输层之间循环传输。该飞靶循环运输系统结构简单，占地面积小，达到节约成本的目的。
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公开(公告)号：CN111101118B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN201911206581.3
申请日：2019-11-29
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
摘要： 本发明提供的一种回流槽及具有回流槽的装置，包括主槽体和至少一个喷洒组件，主槽体上设置第一排液口，主槽体的其中一组相对槽壁上开设适于通过待处理件的过物口，喷洒组件适于在待处理件经两侧过物口通过主槽体时向待处理件喷洒防氧化流体。防氧化流体覆盖在待处理件上，将待处理件表面与外界空气隔绝，避免了待处理件表面的氧化，提高产品质量。
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公开(公告)号：CN110592653B
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN201910829035.9
申请日：2019-09-03
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
摘要： 本发明属于电解蚀刻领域，提供一种电解液喷洒装置，包括喷洒单元，所述喷洒单元包括数根喷管和喷嘴，所述喷管水平设置且在水平面上的投影重合，所述喷嘴设于所述喷管上；以及开关组件，包括设于所述喷管上的流量控制单元和通断控制单元。所述流量控制单元控制所述喷管的电解液喷洒流量，所述通断控制单元控制所述喷管内的电解液的通断；所述流量控制单元和所述通断控制单元串联或并联设置于所述喷管上，用于调节蚀刻过程中同一待蚀刻件上水平方向蚀刻的均匀性。
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公开(公告)号：CN116240616A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202111511825.6
申请日：2021-12-07
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
发明人： 方荣平
摘要： 本发明涉及电镀技术领域，尤其涉及一种清洗装置、电镀设备及电镀生产线。清洗装置包括清洗槽和回流槽，清洗槽位于药液槽的上游和/或下游，清洗槽内设有喷淋管组，两组喷淋管组沿第一方向间隔设置形成喷淋通道，清洗槽内的位于上游的喷淋管组朝向喷淋通道的下游方向喷水，清洗槽内的位于下游的喷淋管组朝向喷淋通道的上游方向喷水。防止清水沿产品进入回流槽，避免回流槽内的药液被稀释处理效果。清洗槽与相邻的药液槽通过回流槽相连通，回流槽能够阻止相邻药液槽中的药液进入清洗槽，回流槽内设置有风切组件，风切组件能够对产品进行风干，节约水资源。电镀设备和电镀生产线通过应用上述清洗装置能防止不同药液槽之间窜液，防止药液被稀释，节约水资源。
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公开(公告)号：CN116180041A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202310322688.4
申请日：2023-03-29
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
发明人： 杨树本
IPC分类号： C23C14/56
摘要： 本发明涉及真空卷绕镀膜技术领域，提供了一种在真空卷绕镀膜过程中对柔性带材横向同步展平的结构，其中展平结构包括：机架；至少一对展平轮，设置在机架上，所有的展平轮与镀膜辊之间形成过膜通道，被镀膜柔性带材两侧边界穿过过膜通道，且任一展平轮适于与被镀膜柔性带材的边界区域抵接；以及调节组件。此结构的展平结构根据实际的使用状态展平轮具有自动调整初始角度以适应横向侧拉力的功能，展平轮在对带材横向持续展平达到平衡状态后随横向拉力自动摆动到一个既能持续维持横向展平力又能自动摆动角度以适应实际状态所需的更小的夹角，对带材横向展平的同时不会对带材造成摩擦损伤，具有了自调节功能。
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公开(公告)号：CN116145215A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202310167494.1
申请日：2023-02-27
申请人： 昆山东威科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及半导体电镀技术领域，尤其涉及一种电镀池飞靶组件及电镀装置。该电镀池飞靶组件主要包括支架、第一连接板、第二连接板和固定轴。其中，支架的下端面设置有滚轮，滚轮被配置为在电镀槽顶部的滑轨上滑动。第一连接板和第二连接板设置在支架上。固定轴的一端与第一连接板连接，固定轴的另一端与第二连接板连接；固定轴上等间隔地设置有多个安装位，安装位用于安装电镀夹具。该电镀池飞靶组件，稳定性和可靠性高，能够提高生产效率，提高电镀装置的产能，节约成本。
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